滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：读盘速度很快的，pineer先锋大品牌，品质有保障。 产品包装：包装结实，简单。 读盘声音：读盘声音不大，可以接受。 稳定性能：稳定性好。 轻薄程度：很轻薄，方便携带外出？。 外形外观：外形简约，灰黑色的，显得特别上档次。 京东自营的，物流给力有保障，好评好评。

俄、日纷纷加紧研制新一代光刻机

读盘速度：很快 读盘声音：很轻 稳定性能：很好 轻薄程度：超薄的 外形外观：大气 产品包装：严谨

买了一段时间,非常好用……先锋大品牌、京东自营值得信赖,保修无忧。物流快捷下单第二天就到货,快递小哥服务态度? 读盘速度：8X-48X,刻录速度 12X-48X 读盘声音：很小 稳定性能：供电稳定,高速运转稳定性好 轻薄程度：正常光驱大小 产品包装：完好、简洁 需要还会光顾?

第二大方案是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替代极紫外线，电子对应的波长只有0.04纳米，加工精度就比EUV又高了不少

目前在这一块比较突出的是美国，前不久前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm）

高端光刻机为什么不卖给中国

很遗憾

家里的电脑使用时间有点长了，光驱是易损品，时间长该换了，选了很久，买了这款先锋光驱，毕竟是大品牌，可信赖！总之5星好评！ 读盘速度：因为买的是刻录光驱，肯定主要看刻录速度，感觉还不错，CDRW24倍速，DVDRW是8倍速滴? 稳定性能：毕竟是大品牌，性能肯定比较稳。 轻薄程度：很好，适合台式机。

芯谋研究首席分析师顾文军对《环球时报》记者表示，中国是全球芯片最大的市场和进口国，半导体设备和材料需求高速成长

中国的市场规模在持续增加，在行业下行阶段市场地位更为重要

美媒援引新美国安全中心资深研究员基尔克里斯的分析称，“美国一直在与盟国讨论这些（对华芯片）管控措施，但事实仍是实施的控制措施依旧是单方面、境外的

即插即用，免包装程序，方便实用。刻录速度很快，1g大约8分钟?(¯﹃¯?)～～外观大气简约瘦小，生产日期今年8月～～

自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！

非常完美的刻录机。现在公司买的小型主机几乎都没有像以前那这样自带光驱啦。所以必须买一个外带光驱用来读取和刻录光盘。机器黑色耐脏而且包装也很好。使用过了，没有任何问题。

关于金春水教授和他的EUV研发情况，请参考前文：解读国产光刻机困局（四）：长春光机所的EUV光刻机？长光集智光学科技有限公司：团队在长光集智光学科技有限公司股东名单里，我们看到一共有18位自然人股东，共持股20%

物美价廉，性价比高，下次还买了，读盘速度：非常块读盘声音：非常小稳定性能：稳定性能：非常 稳定

长光集智光学的招聘信息（部分）长光集智光学科技有限公司：金春水作为长光集智光学科技有限公司的最大自然人股东，金春水教授出现在中科院《2017年02专项“极紫外光刻关键技术研究”通过验收》的通讯稿里

自动化和脚本：几乎所有操作都可以自动化

单个命令或脚本的命令行界面

内置和用户编写脚本的脚本菜单

多种模式输入模式——如几何形状、矢量列表、黑白位图

内置计量：提供无损成像模式，以便新图案可以与旧图案对齐，并且可以在写入后检查图案质量

照例给予好评！给自己给朋友同事亲戚装机多台，常选LG和先锋等品牌光驱。对这两个品牌光驱（刻录机）充满信赖。现在光驱（刻录机）使用频率越来越低，装机后安装原版随机驱动还是光驱（刻录机）比较方便。现在向法院提交视频、图片，也需要刻制光盘，还的满足职业需求。现在的价格常搞活动，也很便宜。

而美国为了改善这一局面，要求ASML禁止向大陆出口DUV光刻机

根据国际光刻机出口数据统计，28nm以上芯片市场份额占据全球芯片市场的76%，也就是说DUV光刻机出口才是ASML贸易大头

而美国的政策无疑是断人财路，ASML为了生存，进而态度转变，开始向中国频频示好，甚至向美国撕破脸

读盘速度：很快很强 读盘声音：比较轻 稳定性能：性能稳定可靠，容错能力强 外形外观：很好看 轻薄程度：适中 产品包装：精致

京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐

先锋外置刻录机很快到货，还没试用。以前买过好几台先锋光驱和刻录机，挺好用。不是第一次买了，这个品牌真是刻录机中的第一品牌，上一个用了5年，终于到年头可以换了，好用的很！好评！

众所周知，目前所有的芯片制造，均要经过光刻这么一个工艺，所以光刻机是必不可少的半导体设备

而光刻机与芯片的工艺是相对应的，比如EUV光刻机用于7nm及以下，DUV光刻机用于7-180nm

还有UV（i-line）光刻机，主要用于0.35um工艺

办公需要刻录光盘做数据保存，这款读盘能力很强，速度很快，震动不大，有轻微的声音，日常使用基本上不会察觉到；刻录写入时比18x的要快不少，过程很稳定，不会出现数据错误或者写完读不出的情况，购买时还赠送sata数据线，很方便。

2，除了类似的综述论文所需资料外，会包含研究人员和研究团队的分析，研究人员的背景、研究团队的组成、稳定性，以及他们的技术能力，是分析、预测项目推进的重要组成信息；介绍俄罗斯的LPP EUV光源研究员康斯坦丁·N·科舍列夫3，在研究人的因素之上，进行详细的工业基础、技术背景调查，以此了解每一项组件所依赖的外部条件，如软硬件、材料、资源、资金等，以此判断实现每一个环节大概所需要的时间，并整体综合判断项目进度

光刻机困局调查中涉及的时间动态分析图：光刻工艺的演变因此，我整理了大量各种变量的时间演变曲线，并且标注其中的关键节点，对于重要的关键节点，做详细的人、物、力的调查，并以此来评估、矫正对技术发展趋势的判断

使得自身的科研进度逐步减缓，以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节，自主研发的道路越走越窄

　　取而代之的是数以万千的廉价劳动力，尽管后来尽力去跟进研发，但由于自身发展原因加上大环境影响，导致曾经辉煌一时的半导体盛景已然成为“泡沫”

　　此时的中国就已经意识到了其重要性，快速向半导体产业进军

恰巧2000年的中国，正是大量爱国人士回国创业的时代，他们带着外国的先进知识和经验，进一步促使中国半导体的产业得到光速发展

　　2007年，上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机，但由于大多数元器件来自国外，西方国家再次禁运，导致无法量产