ASML最新光刻机曝光:20亿一台
读盘速度:很快很强 读盘声音:比较轻 稳定性能:性能稳定可靠,容错能力强 外形外观:很好看 轻薄程度:适中 产品包装:精致
而要生产2nm的芯片,数值孔径要变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,同时单次构图间距低于30nm
这种新的EUV光刻机叫做型号,就叫做EXE:5200,目前ASML已经有了规划,预计在2024年底,或者2025年交付
众所周知,制造7nm及以下工艺的芯片,需要用到EUV光刻机,而全球仅有ASML能够生产