滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能

其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光刻机能快速生产高精度的芯片，所以很重要

光刻机工作原理利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光之后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用

关于光刻机中国芯片光刻机上市龙头公司

读盘速度：速度很快，先锋还是很不错的 读盘声音：声音很轻柔 稳定性能：刚上机，目前来说还是很稳定的，不出意外应该会很稳定的 轻薄程度：很简洁，做工挺不错的 外形外观：京东的物流向来是很给力，外观很板正，毕竟是大品牌，还是不错的 产品包装：没有任何磕磕碰碰，盒子包装都没有划痕，很给力不错

光驱收到了，非常好用，连续刻录了10张都成功了，先锋这个牌子还是值得信赖的。整体来说还是很不错的，店家服务态度很好，而且质量也很好，比前的华硕好用太多，开心

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢

而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试

京东物流非常快！给力！光驱装上电脑一切正常，很静音！赞！读盘速度：非常快，大品牌，用起来很放心，质量非常好，赶上活动购买非常的划算。

很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年

在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段

当然，目前全球也在研发其它技术的光刻机，比如多电子束直写光刻机（MEB）、定向自组装技术（DSA）、nm压印技术（NIL）等不同新技术也，希望这些技术有所突破，那么我们就不必依赖ASML了，否则真的太难超越它了

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

数据显示，全球一共售出478台前道光刻机，被ASML、尼康、佳能瓜分了

其中ASML拿下了其中的309台，占比为65%，接近三分之二的市场

据悉ASML已悄悄转变态度，近期表示将DUV光刻机产能增加至600台，EUV光刻机增加至90台，在全球芯片行业衰退减少采购光刻机的时候，它如此做瞄准的无疑是当下仅剩的还有意扩张芯片产能的中国市场

在过去数年，全球展开了产能扩张竞赛，规划了86个芯片制造项目，如今已完成了其中40个，芯片产能大幅提升，然而就在此时全球芯片市场却出现逆转，从供给不足向供给过剩转变，并且供给过剩相当严重

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先锋蓝光刻录机己收到，质量很不错。物流送货上门，非常方便，很好，安装到位，正在调试，物流也很快。昨天下午下单，今天上午就到了

这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！

2025年量产

光刻机概念总龙头

这项研究成果由台大电机系暨光电所教授吴志毅，与台湾积体电路和MIT研究团队共同完成，已在国际期刊Nature上发表，有助实现半导体1nm以下制程挑战

可以说，台积电1nm也是未来可期

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相对于其他国际大厂来说，我国的光刻机业务已经算是落后时代的脚步了

佳能的光刻机市场虽然没有asml公司的市场大，但是佳能毕竟也是光刻机领域的跟随者，在技术底蕴上面比我们有优势

尽管EUV光刻机暂时还是asml公司的垄断产品，但是佳能如果能对中国出口DUV光刻机，那么对于我们的帮助也是很大的

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光驱很漂亮，启动的声音很小，弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度：很快读盘声音：声音小，几乎听不到产品包装：精美

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如今在全球市场上，能生产出先进EUV光刻机的只有ASML公司一家；凭借着垄断的优势，也让ASML公司在光刻机领域赚的是盆满钵满；而ASML公司也曾公开表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，中国也造不出来！这也说明光刻机是非常难造的；据悉一台EUV光刻机拥有超10万个零部件，这些零部件精选全球超5000家供应商；而我们想要凭借一己之力去造EUV光刻机也显然是不太现实的！值得一提的是，不管怎么说EUV光刻机是人造的，而不是神造的，只要我们肯加大自主研发的力度，那么就没有什么是不可能的；为了解决卡脖子的难题，华为等众多的国产科技企业都选择了埋头苦干，在国内科技企业的不不断努力下爱，现在国产光刻机已经实现14nm技术的突破，未来也是十分可期的

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先锋刻录机总体感觉不错，刻录机的读盘速度很快，刻录的速度也很快，运行的声音都很小，刻录机的运行性能很是稳定，是给公司购买的，使用部门反馈效果很好，而且价格也是实惠，京东的快递速度很快，京东的快递小哥服务态度很好

2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点