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先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺,这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本,存储密度、功耗等指标也更优秀
更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化,全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点,最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机,甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂