滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

使用了一下，外形挺简洁，放DVD很好用，刻录暂时没用。安装简单，读取速度快，希望可以使用期限可以久一些。京东得物流依旧是很不错

先锋蓝光刻录机非常好，物美价廉，很实用，物超所值，质量还是不错的，刻录很方便，三步就像U盘一样，直接拖拽就可以刻录了，不需要非常麻烦的操作，也不需要下载刻录软件，而且可试用的光盘范围比较宽广

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我国之所以迟迟无法独自制造出高端芯片，主要还是EUV光刻机被卡了脖子

在光刻机领域，荷兰ASML公司拥有着绝对的话语权，垄断着全球EUV光刻机市场，决定着台积电、三星、英特尔等芯片制造企业高端芯片的走向

据公开数据显示，ASML公司所制造的EUV光刻机所使用的美国技术和元器件的比例高达30％，也正是因为这个原因，老美才有了挟“人类智慧的结晶”令世界“芯片”的实力和底气

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很好，正常使用中，这个品牌的技术过硬，用着放心，推荐大家购买。一直信赖先锋这个牌子，但现在的刻录机比以前的噪音要大，而且数据线也没有...

第一次买刻录机，担心尺寸和电脑不符，买回来可以装，很高兴，质量很好，京东的客服人员也非常好，遇到问题还亲自打电话过来帮我解答，让我没有后顾之忧，有一些不懂还要继续学习，性价比很不错，是正品，包装也很结实。 稳定性能：好 产品包装：好 外形外观：好

在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机

还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机

那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

先锋蓝光刻录机己收到，质量很不错。物流送货上门，非常方便，很好，安装到位，正在调试，物流也很快。昨天下午下单，今天上午就到了

相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看

读碟挑剔，咨询客服，无回复。拿到手沉甸甸的，包装很好，装机试了一下，读盘很快，稳定，希望用的久一些

ASML为何坚持向中国出售光刻机？主要还是有以下几点原因

首先是为了自己的销售额，据相关数据统计，全球100多家芯片企业中，我国的芯片厂商就有42家，如今高端芯片被台积电和三星这些龙头企业所垄断，而我国中低端芯片产能还非常高

其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现，石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一，由于它自身的特性，石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度，用于芯片上则可以大幅提升性能，因此全球都在积极研发石墨烯技术

类似石墨烯专利

不错，很好，喜欢?，给力?，哈哈?果然是大牌子，质量很好，声音安静，读取刻录都很顺畅

光驱外观好看，包装店家很用心，上机试了一下，读取光碟内容很快，播放没有卡顿，特意用了几天才来评价，希望对大家有所帮助 读盘速度：快 读盘声音：没有声音 稳定性能：非常稳定 轻薄程度：非常薄 外形外观：漂亮，高档大气上档次 产品包装：完美

面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的

今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要

回顾中国光刻机过去60年间的发展，前20年，在科研人员夜以继日的攻关下，中美光刻机差距被缩短到了7年，中间十几年，因为种种原因，国内外的光刻机差距越拉越大，直到2000年后，面对断供的威胁，以及与国外的恐怖差距，国产光刻机再次开始奋力追赶

商品经济实惠，质量很好?，什么光盘都能读写，物流速度快，太给力了。收到了，开了用过了，很棒速度很快

从路线图来看，TWINSCAN EXE：5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程的生产

国外曾有分析师直言，“我敢打赌，英特尔为这一权利花了很多钱，因为他肯定不是唯一想先得到这种机器的公司”

安装十分方便 客服也耐心解答 十分良心的卖家 毫无疑问的好评 一定会下次再来的 特意买回来看我和老婆的结婚纪念照的 很不错的消费经历 你值得拥有

公司一直在用这个产品，经久耐用，一直在用，非常好用，也可以购买我们公司的产品。

大品牌的外置光驱，一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定，耐用。刻录光盘很少报废，速度很快。现在新电脑都很少配置光驱，买他就很方便。

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机，今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售，然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机，将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

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