滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

但想要制造出一定的东西，必须要有工作台，在光刻机的制造上工作台同样也是一个非常令人头疼的技术突破口

光刻机的工作台主要控制的芯片在制造过程当中的一些网络设计，所以对于工作台的移动精度要求也非常的高

在这样的情形之下，想要能够制造出符合要求的工作需要付出的努力也更多，同时即使造出来了，工作台运作的过程当中，还需要花费很多的时间来对准，这样才能够保证它的工作进行程度

而光刻机可以直接地理解成一个成像的设备，就是将一些设置好的图案，利用电路图形将它直接到晶园上，这样才能够让制造出来的芯片有价值

到货拿回家就马上装上了，已经第二次买先锋牌的光驱，质量还是很好，很实用，京东快递小哥很有礼貌，服务很周到。

荷兰光刻机掐住中国芯片咽喉

中国为了芯片安全要以一己之力复制整个产业链，难度不言而喻

从实验室走向生产车间，当中可能还要花费数年的努力，研制成功和大规模量产应用之间仍旧有巨大的鸿沟

EUV光刻机有三大核心技术，一块是曝光光源，也就是极紫外线的产生

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图为ASML光刻机在AMSL的公司份额占比中，美国企业占据了近一半，这也意味着AMSL实际上是被美国掌控着，这也给AMSL生产光刻机带来了无尽的方便，AMSL生产的每一台光刻机，都由来自美德日韩等国供应商提供关键部件，以AMSL最先进的EUV光刻机为例，该光刻机的光源技术来自美国，工作台跟镜头来自德国，激光器则来自日本，要钱有钱，要资源有资源的AMSL，垄断市场是必然的

图为国产光刻机考虑到光刻机技术的发展需要大量时间沉淀，在目前阶段，中国应该大力发展中低端光刻机技术，并实现大规模量产交付，以此来扩大产业规模，培养技术人才，只有这样，中国才能追上与西方在技术上的差距，并早日实现高端光刻机的国产化

图为ASML光刻机在AMSL的公司份额占比中，美国企业占据了近一半，这也意味着AMSL实际上是被美国掌控着，这也给AMSL生产光刻机带来了无尽的方便，AMSL生产的每一台光刻机，都由来自美德日韩等国供应商提供关键部件，以AMSL最先进的EUV光刻机为例，该光刻机的光源技术来自美国，工作台跟镜头来自德国，激光器则来自日本，要钱有钱，要资源有资源的AMSL，垄断市场是必然的

2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台

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一味想将半导体工业扑在军事上的苏联当局，选择的电子管微型化路线，显然是不适用于集成电路发展的，所以在集成电路的竞赛上，美国取得了方向山的胜利，这让美国将优势保持到了今天

7nm光刻机的工艺难度并不低，这让今天很多工业基础深厚的国家都一定能够独立建造出来，俄罗斯的高调宣布在不少西方国家眼里不过是一种吹牛皮罢了

读盘速度：很快哦 读盘声音：很小哦，静音呢 轻薄程度：一般哦 外形外观：很靓哦，总体满意

受到获胜一方美国的为代表的全力制裁后，被打醒的俄罗斯将全力以赴开始投入到光刻机的研发中，这也是俄罗斯在冷战结束后走向半导体工业自主化的重要一步，那么俄罗斯的这一次尝试能否成功呢？一、宣布研制7nm光刻机随着集成电路的发展，光刻机这种必要的生产设备显得越来越重要了，特别是生产微型芯片时，光刻机在搭建微型电路上的功能至今还是无可替代的

文 | 华商韬略 霍怡　　在搞点上不得台面的小动作上，美国从不让人失望

　　而事实上，荷兰如果真的同意了，这也确实会对中国芯片制造商造成严重的冲击

　　可即使如此关键，放眼全球，能做到的国家也寥寥无几，光刻机需要集合不同国家的顶尖技术支持，可以说是全球智慧的结晶

读盘速度：非常快也非常的有效率 读盘声音：基本听不到什么声音，非常安静，掉根针都能听到针的声音 稳定性能：即插即用，放进光碟就能读到想要的内容，非常的值得拥有 轻薄程度：材料用的非常好，又薄又轻方便携带使用 外形外观：黑金刚好看最主要大家都知道，耐脏，本人比较懒。

目前ASML生产的第一代EUV光刻机主要有三大客户，分别是三星、台积电和Intel，而这三家芯片制造企业都已采购足够的第一代EUV光刻机，再加上台积电的先进工艺出现过剩而不得不关闭EUV光刻机，如此它们已不可能大规模采购

ASML当然不希望自己投入巨资研发的第一代EUV光刻机就此终结，而希望继续销售第一代EUV光刻机获取厚利，不过EUV光刻机的潜在大客户只有中国，由于美国的阻挠，至今ASML都未向中国交付EUV光刻机

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连续参展进博会

由于光刻机的体型过大，ASML虽多次参展，但并未带过真实的光刻机到进博会现场

今年该公司通过元宇宙视角展现其“铁三角”业务，包括配备先进工艺控制能力的光刻机台、计算光刻、光学及电子束量测，观众可以“亲身”进入无尘室，近距离接触光刻机

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