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此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队就已研发出光刻机双工作台,由此中国成为全球第二个可以生产双工作台的国家;此外激光头、镜头等厂商也陆续生产出先进的组件,各个产业链企业的努力正逐渐完善国内的光刻机产业链
中国除了继续研发光刻机之外,还在研发无需光刻机的芯片制造工艺,这方面已有日本做出示范,日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用,证明了无需光刻机也能生产芯片,而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产,如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾