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欧泰克光刻机

现在，美国的加码施压，扩大打击范围，意欲将DUV也纳入控制范围，这不但会让中国正常的扩产通用芯片的能力面临考验，更会进一步限制中国向国际市场供应的能力

今年上海进博会上的阿斯麦公司展台 物极必反，荷兰ASML公司会听从美国的禁令吗？报道证实，从ASML公司到荷兰外贸与发展合作部，都对美国的长臂管辖恼怒异常

尖端芯片已成现代为电子工业皇冠上的明珠 美国多次呼吁禁止向中国出售更多芯片制造设备，荷兰将抵制

一位荷兰高级官员说，荷兰在向中国出售芯片设备问题上将捍卫自身的经济利益

3种替代方案

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了

另外，光刻机的制造对生产环境要求相当高

正是因为如此，目前没有一个国家可以独立完成光刻机的制造

以光刻机巨头荷兰阿斯麦公司制造的EUV极紫光刻机为例，其就继承了美国、日本和德国等多个国家的技术

目前光刻机几乎被阿斯麦公司一家垄断，高端光刻机领域，阿斯麦公司的市场占有率超过90%

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2019年，阿斯麦公司向美国提交诉讼，指控两名从Brion公司离职的员工带走了大量的技术，为XTAL公司的创立提供了基础

至于XTAL公司是如何与中国的东方晶源公司联系在一起的，阿斯麦公司在财报中并没有披露细节

也就是说，阿斯麦公司并没有充分的证据证明XTAL公司与东方晶源公司存在业务往来或者技术交换，所谓的东方晶源涉嫌侵犯阿斯麦公司的知识产权，只是阿斯麦公司的猜测

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而DUV光刻机的光源，我们很早就已经实现了突破，国产替代完全没有问题

所以ASML才说，DUV光刻机已经是一项成熟的技术，言下之意，如果我不卖，那我很快就会被替代

事实上，我们国产DUV光刻机的高端部分，近年来，各个主要零部件，已经纷纷进入中试阶段，距离量产已经是一步之遥

在今年上半年，我们大陆中企为ASML带来的营收贡献，直接占据了份额第一

为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）禁止向我国出售14nm及以下工艺的DUV光刻机，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及所有制造芯片所需的主流技术

要知道，目前全球只有ASML能够生产先进的EUV光刻机，但ASML的光刻机汇集了世界高端技术的结晶，其中自然用到了很多含有美国设备的技术，所以ASML自由出货被美方拿捏得死死的

苏大维格中国光刻机出口量

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但是谁也没有想到，7纳米等更先进工艺不仅设计成本高昂，制造成本更是成倍的提升乃至数倍的提升，光刻机的价格也是高出天际，所以产业界已经开始寻找替代方案，例如芯粒技术、先进封装等都已经开始被应用，作为光刻机巨头的ASML自然是嗅到了这样的气味，产业又开始变向了

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更关键的是，ASML可不是没有自己的担忧，我们国产光刻机也在快速发展，之前ASML方面就已经表示，物理定律在荷兰与在中国是一样的，也就是说，ASML可以利用物理定律制造出先进光刻机，我们也能，只是时间问题，如果ASML不抓住这个时间窗口，一旦窗口关闭，那么再想进来可就难了，如果您觉得说得在理，感谢给个点赞和在看

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中国已生产14纳米光刻机

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国产光刻机与万业企业

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3nm工艺尚且面临诸多困难，更别谈难度更大的2nm工艺了，2nm工艺能否如期在2025年量产存在很大的不确定性，再有就是2nm工艺需要采用ASML第二代EUV光刻机，而第二代EUV光刻机将比目前的EUV光刻机贵两倍多，工艺生产的耗电成本也是倍速上涨，性能提升和成本未必达到经济成本

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