由于众所周知的原因,ASML无法对中国出手最先进的EUV光刻机,而在当前用于成熟工艺的DUV光刻机市场,佳能和尼康都有一战之力,早前美国又要求ASML不得对中国出手14nm以下的DUV光刻机,ASML照单全收,中国方面没有说话但是却通过招标表达了意见,中国芯片行业并非只能采用ASML的光刻机
其实日本的光刻机企业也有深厚的技术积累,在2005年之前,日本的佳能、尼康占有光刻机市场八成的市场份额,不过当时它们力推的是干式光刻机技术,干式光刻机技术逐渐达到瓶颈,台积电恰在那时候研发出了浸润式光刻机技术,而日本企业不愿失去已有的利益,将机会让给了ASML