滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

这样的技术不仅可以用于DUV光刻机，还可以用于EUV光刻机

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光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

先锋蓝光刻录机非常好，物美价廉，很实用，物超所值，质量还是不错的，刻录很方便，三步就像U盘一样，直接拖拽就可以刻录了，不需要非常麻烦的操作，也不需要下载刻录软件，而且可试用的光盘范围比较宽广

先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。

终于拥有自己的刻录光驱了，比我上一个只能读取的上了一个台阶，很满意！现在很多机箱都没有光驱位了，为了方便起见，配了先锋DVD刻录机，质量很好。

ASML表示，他们计划将产能增加到 90 个 EUV 和 600 个 DUV 系统（2025-2026 年），同时还将 High-NA EUV 产能增加到 20 个系统（2027-2028 年）

与2021年42套EUV系统销量相比，相当于EUV光刻机产能直接增加210%+了，这应该是ASML拿出来的最大诚意了

第二次买了，上次5个，这次又为单位上买了5个，上次买的评价比较好，读盘能力强，刻盘很稳定，国产品牌中很不错的产品，现在用光驱的时候越来越少，外置光驱价格也降了不少，有时要用的时候又找不到，常备几个以备不时之需。

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国际品牌日本先锋，光储存行业老牌巨头出品的入门级内置式DVD刻录机，兼容CD、VCD、DVD读取，CD-R、CD-RW写入，DVD-R、DVD RW双层写入，读盘性能稳定，迅速安静，后背为铝制外壳，非常坚固，还附带安装螺丝，非常高性价比的一款DVD刻录机！强烈推荐！

读盘速度：快 读盘声音：小 稳定性能：相当好 轻薄程度：都是这个尺寸 外形外观：工艺精湛 产品包装：很好

ASML怂了

我们认为，在今年的一季度，我们认为，这不仅仅是偶然，而是 ASML在技术层面上，在市场层面， ASML也感受到了巨大的压力

中芯集团最近公布了一份新的产能，共计340000块12寸的芯片，而 DUV的光刻设备，就是最好的选择

为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯片的性能仍在稳步提升，有的是从架构上找到了创新，有的选择了改善带宽之类的性能

但我们也都能看出，其中有一部分产品选择了走大规模的路线，比如苹果的M1 Ultra

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成

据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦

主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电

在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。

简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。

两人就“全球产业链供应稳定”和“强调共同维护”进行了友好对谈，中方还表达了对“美国取消对华加征关税和制裁、公平对待中国企业”的关切，这次的交流被定论为“极富有建设性”

　　转头美国就对中国芯片制造使了个绊子，可真是坐实了它“种地不出苗——都是坏种”的名

据外媒报道的消息可知，荷兰已经同意与老美加强合作，共同限制中国企业取得先进芯片技术的管道，把对中国半导体的出口管制法规划，并与美国此前出台的一系列半导体出口措施保持一致

虽然双方还在谈判中，但是以老美的秉性，大概率会禁止ASML向中国市场出售DUV浸润式光刻机

asml光刻机需要远程认证

反转出现

正如人民日报说的那样：关键核心技术是要不来、买不来、讨不来，若不自立自强，必有“卡脖子”之虞

国内企业应该放弃幻想，聚四海之气，借八方之力，自立自强不是关起门来搞科研

一直想弄个刻录机，在华硕和先锋两个品牌面前打转，不知道选哪个，以前用的CD和DVD都是先锋的，有点点情节，先锋的质量非常好，希望现在的也一直保持着当年的光彩，这款支持4K，功能全面，果断下手，要弄就弄个好点的，未来说不定需求都要，做工非常了得啊！质感很好！支持先锋！

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片

一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前，ASML的一台ADT工具，便坐落在纽约州立大学理工学院，也就是帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当时工作的单位

这套价值6500万美元的设备信息，至今仍然挂在纽约州立大学理工学院（SUNY POLY）的主页，这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源荷兰的光刻机为什么这么牛

2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台