中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源半导体材料光刻机的价格
两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述,德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后,3年内推出了六镜头的ADT验证机
所以,蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限,而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上,几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限
因此,在大约十年时间里,长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力,使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发