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另辟蹊径,一心超越EUV近日有消息称俄罗斯正在开发一款全球领先的光刻机,甚至比ASML最先进的EUV光刻机还先进,俄罗斯莫斯科电子技术学院承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目,该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金(约合5100万元人民币)
美国为了阻碍中国半导体事业进步,将中国半导体生产限制在10nm以上,对中国实施了严格的禁售,而作为光刻机最重要的生产商阿斯麦,长期垄断这一市场,摄取高额的利润,阿斯麦发言人更是讽刺得说:“将全套的技术给中国,他们也生产不了光刻机”,此话一出,让无数国人愤怒又无奈