在政策的大力支持下,芯片行业进入了海归创业和民企崛起的时代,国产光刻机事业再次艰难起步
此时,国际上光刻光源已经被困在193nm长达20年,最终台积电在2002年提出了浸入式光刻方案,阿斯麦也凭此击败尼康,成为新一代光刻机霸主
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参考文献:1.中国曾经的光刻机研发与徐端颐,章正远2.国产光刻机五十年:星星之火,可以燎原?陈辰3.中国芯酸往事:熬过多少苦难,才能实现追赶和超越?戴老板4.中国科学院109厂阶段(1958-1986年)之二,中国科学院微电子研究所5.【中国科学报】为祖国绘制科技蓝图——中国科学院学部成立60周年特别报道之一,丁佳6.GK—3型半自动光刻机工作原理及性能分析,刘仲华7.光刻机座谈会在江苏吴县召开,半导体设备8.我国自行设计制造的 KG-3 型半自动光刻机在沪通过鉴定,徐鑫培9.光刻技术六十年,陈宝钦THE END