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佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺
当然现在的问题是,能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机,究竟会在什么时候面市,如果佳能能够实现这个技术,全球的半导体格局都有可能生变
所以其它厂商有一个非常大的机会,那就是搞定EUV光刻机,然后卖给中国,那会是巨大的市场
不过,要掌握EUV光刻机技术,可不容易,因为ASML造EUV光刻机,是整合了全球的技术,美国的光源、德国的镜片、英国的真空腔,可以说是举全球之力完成的