众所周知,目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机,能够制造3nm的芯片
且在ASML的规划中,到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机
这种EUV光刻机,数值孔径变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片
按照Zyvex的说法,这台ZyvexLitho1是可以商用的,还可以接受别人的订单,具体多少钱一台,不清楚,但机器对方可以在6个月内出货
虽然可以对外出货,但国厂商,想要买到它,可能就千难万难了,基本不太可能,毕竟EUV光刻机都买不到,更不要说精度更高的电子束光刻机了