光刻机的难度相当大,在于它自身就是一个庞大的产业链,DUV光刻机的重量达到500公斤,由1万多个元件组成;EUV光刻机更是重达180吨,由10万多个元件组成,正是因为它的复杂性,所以ASML自身无法生产所有元件,需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机
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同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术,然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用,于是台积电才找上ASML,而当时的ASML相当落魄,寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视,但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局,于是与台积电一拍即合