当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里,通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构,从而制造更先进的工艺,然而这种方式随着向更先进的工艺推进,这种方式导致光刻机日益笨重,光刻机自身的成本也因此激增,第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元,预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元
ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了,这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平,以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米,再先进的工艺就得另寻它法