美国联合欧洲,出动了国家三大实验室,联合美欧160多家科研单位耗费了十几年才攻克了EUV的理论难题
而ASML在制造的时候,可以获取到全球最顶级的零件,光源采用美国的Cymer,透镜是德国的蔡司,2010年,ASML向台积电交付首台EUV研发设备TWINSCAN NXE:3100系统
收到货好几天了,在用这款writer,感觉还不错,已经刻了一张,性能不错,而且方便携带,包装还好,物美价廉的好商品!
这个世界上并不存在5nm光刻机?
中国的目标,是要在2030年造出EUV极紫外光刻机,大家可能觉得,ASML2010年就已经开始量产光刻机,这会不会太晚了,事实上,这并不算太晚,我们通过不断地缩小所采用的光源的波长(EUV光源13.5nm),增强投影物镜的最小线条成像能力(提高数值孔径1.3)等方式,不断缩小能够加工的最小线宽