滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

在美国政府看来，尽管中国目前从阿斯麦公司拿到的设备，其所用的技术处在边缘淘汰阶段，但是中国的光刻机企业仍旧可以以此为基础，研发技术更加先进的光刻机

近年来，中国国产光刻机取得了一系列重大突破，2018年上海微电子生产的90nm光刻机通过了验收

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ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了，这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平，以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米，再先进的工艺就得另寻它法

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美国为ASML光刻机提供关键的光源 然而，荷兰ASML公司已经在一定程度上依赖中国的市场了

据该公司财报显示，中国大陆是其全球第三大市场，营收总额达27亿欧元，约占其2021年全球营业额的1/7

由于从4年前起，美国就一直要求荷兰禁止ASML向中国出售高端光刻机，导致中国早已订货的EUV一直被拒绝交货，这在一定程度上打乱了中国生产7纳米芯片的计划

尖端芯片已成现代为电子工业皇冠上的明珠 美国多次呼吁禁止向中国出售更多芯片制造设备，荷兰将抵制

一位荷兰高级官员说，荷兰在向中国出售芯片设备问题上将捍卫自身的经济利益

在硅基芯片制造中，光刻机是最重要的设备之一，它的总成本占全部设备成本的25%左右，光刻所需要的工时，占所有工时的30%左右

当然，光刻机重要，并不仅仅是因为它贵，而是因为能够生产它的企业不多，全球也就4家，分别是ASML，佳能，尼康，上海微电子

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美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力，禁止向中国出售相关的光刻设备

阿斯麦公司（ASML）的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”，不愿向中国禁止销售DUV光刻机

而就在今天，荷兰光刻机巨头ASML的CEO温彼得又一次表示，中国市场至关重要，若是美国命令荷兰禁止向中国出售相关的光刻设备，全世界范围内的半导体市场供应链将会中断

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光刻机禁令近在眼前

由于自家的光刻机中需要使用美国生产的零部件，即使荷兰政府不出台相关政策，ASML 也已经受限于美国的出口管制措施，没办法向中国出口最先进的极紫外线（EUV）光刻机（可以用于生产 7nm 及更先进的芯片）

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根据媒体报道，荷兰正计划跟上美国，对中国出台半导体出口管制措施

虽然具体的细则暂不明确，但不大可能比美国的更严

光刻机是芯片制造中过程中最重要也是技术含量最高的设备，总部位于荷兰的阿斯麦（ASML）几乎垄断了全球高端光刻机市场，整体市占率约 75%

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和汽车一样，任何一家主机厂都无法脱离产业链生产出优质的产品，光刻机也一样，不是靠一两家单位埋头苦干就能研究出来的，就好比ASML背后是强大的欧美光学设备产业链，要自己生产出光刻机，需要的是一个同时进步的中国光学产业

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尼康光刻机对位原理

佳能尼康光刻机水平

同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合

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ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机，具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师，在她的主页上，我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究

尼康s204光刻机指标

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也正因为光刻机技术差距大，所以目前光刻机是禁运的，比如EUV光刻机美国就不准ASML卖到中国大陆来，为的就是阻止我们进入到7nm

前段时间还传出美国要对14nm及以下的设备下手，实行禁运，原因就是国内的设备，能够实现14nm以下节点不多，更多的还处于14nm、28nm阶段

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子