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2025年量产

台积电认为这是在「后段布线制程工序」(BEOL) 中克服电阻的最佳解决方案的一种

工序上做出如此改进后，在同等能耗和复杂度下，N2的性能比N3高10%-15%

在相同速度和单位面积晶体管平均数目下，N2的能耗比N3低25%-30%

当台积电在2nm研发上切入GAAFET（环绕栅极晶体管）技术时，其竞争对手三星则早在2年前其揭露3nm技术工艺时，就宣布从FinFET转向GAA，并「大放厥词」：2030年要超过台积电，取得全球芯片代工龙头地位

买来用上了，很合适，这是我第二次买这个刻录机。很是信任。 读盘速度：很快 读盘声音：声音较小。 稳定性能：刻盘很方便。 外形外观：外形包装也很美观简约等等。反正就是喜欢。

读盘速度：刚开使用，读盘写盘都还是很不错的，希望一直质量不错，耐用一些就很棒了

一直选择在京东购物，特别是京东自营店，质量有保证，享受下单后，很短时间内就能体验上产品的感觉，快递小哥服务很好，非常感谢。包装盒看舒服。心理作用还是买个光驱，可能就用一两次，活动价99，便宜。小白装电脑，自我感觉良好，还在选配件，攒机中。担心配件攒齐后出问题过售后期了，就麻烦了。但为了省钱，没办法

EUV光刻机后DUV光刻机也将无法进口:取代ASML已经成了唯一选项半导体光刻机新三板企业

很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好

我国第一台光刻机65型接触式光刻机但是光刻机的研发最终并没有延续下来，这其中有很多原因，一方面是国内很多事业尚处于初期阶段，有更重要的科研方向需要进行研发投入；另一方面则是当时的国际形势发生了变化，随着改革开放的进行加上当时同西方的关系大幅缓和，包括光刻机在内的众多核心设备都可以买到

先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。

在历史上我们国家的光刻机也曾经有过一段高速发展的阶段，早在1965年中国科学院就研制出65型接触式光刻机；1977年研制出GK-3型半自动光刻机；1981年研制出JK-1型半自动接近式光刻机；1985年研制出分步投影式光刻机，达到美国4800DSW光刻机的水平，距离世界上最顶级的分步光刻机也仅有7年的差距

据悉，建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程

项目完成后，可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片，主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品

即插即用，免包装程序，方便实用。刻录速度很快，1g大约8分钟?(¯﹃¯?)～～外观大气简约瘦小，生产日期今年8月～～

刚收到了就使用，非常好用，接上就能用，方便好用，质量保证。物流给力。宝贝性价比很高，质量做工很好，安装简单方便，接口兼容性比较好，推荐购买!

照例给予好评！给自己给朋友同事亲戚装机多台，常选LG和先锋等品牌光驱。对这两个品牌光驱（刻录机）充满信赖。现在光驱（刻录机）使用频率越来越低，装机后安装原版随机驱动还是光驱（刻录机）比较方便。现在向法院提交视频、图片，也需要刻制光盘，还的满足职业需求。现在的价格常搞活动，也很便宜。

在国内芯片产业高速发展的同时，也成为了ASML最大的市场

光刻机进口数量暴增的背后是国内光刻机产业链快速发展的身影

也正是因为国内在科技领域的话语权不断增加引起了美国的忌惮并最终选择对芯片产业下手

芯片这东西，就是电子产品最核心的东西，放在汽车上等同于发动机，是一切的核心

随着科技的发展，手机也越来越先进，拥有的功能也越来越多，对于芯片要求也越来越高，芯片承载负荷也随着增高，所以就需要更强大的芯片

而制造芯片，一定要用到一个机器，那就是光刻机

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

因为在光刻机和半导体行业里，技术最先进的公司将垄断大部分利润，而技术落后的一方在很长一段时间之内很难获利

例如全球排名第一的台积电净利润为3500亿美元，而排名第五的中芯国际净利润仅有2亿美元，两者相差了1000倍

国产光刻机要走的路还很长如今想要对ASML进行追赶，仅仅依靠企业单打独斗很难成功

帮同事买的，品质一流，狠满意的一次购物。读盘能力强，噪音小，读取速度快，刻录时间和刻录质量稳定，同事都说好。包装完整，物流非常快，超级赞！！

2002年上海微电子装备有限公司成立并开始投入到光刻机的研发中，2008年《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》（专项02专项）将EUV技术列为下一代光刻技术重点攻关的方向，并计划在2030年实现EUV光刻机的国产化

在国内芯片产业高速发展的同时，也成为了ASML最大的市场

光刻机进口数量暴增的背后是国内光刻机产业链快速发展的身影

因为在光刻机和半导体行业里，技术最先进的公司将垄断大部分利润，而技术落后的一方在很长一段时间之内很难获利

例如全球排名第一的台积电净利润为3500亿美元，而排名第五的中芯国际净利润仅有2亿美元，两者相差了1000倍

国产光刻机要走的路还很长如今想要对ASML进行追赶，仅仅依靠企业单打独斗很难成功

国内众多芯片厂商采购ASML光刻机在芯片产业链不断完善的同时，国内在新能源汽车、云计算、物联网、5G等领域取得了快速的发展并进入了全球科技产业前列，也诞生了如华为、阿里云等能够在全球进行竞争的强大科技企业