滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖，其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此，它们甚至在挖ASML的根

据悉日本已成功突破5nm工艺，这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的，此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺，似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵，台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题，甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

据悉日本这次是众多芯片设备企业与日本最大的芯片企业铠侠合作开发了先进的5nm工艺，估计是在原有的NIL工艺基础上研发的，此举对于日本的芯片产业来说具有重大意义，将进一步降低芯片的成本，重振日本的芯片产业

据悉日本已成功突破5nm工艺，这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的，此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺，似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵，台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题，甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

读盘速度：非常快也非常的有效率 读盘声音：基本听不到什么声音，非常安静，掉根针都能听到针的声音 稳定性能：即插即用，放进光碟就能读到想要的内容，非常的值得拥有 轻薄程度：材料用的非常好，又薄又轻方便携带使用 外形外观：黑金刚好看最主要大家都知道，耐脏，本人比较懒。

物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

ASML陷入众叛亲离境地

质量很好，很好用，值得购买，会继续光顾，物流很给力。使用非常方便，刻录非常容易，效果非常不错，很好用

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

安装十分方便 客服也耐心解答 十分良心的卖家 毫无疑问的好评 一定会下次再来的 特意买回来看我和老婆的结婚纪念照的 很不错的消费经历 你值得拥有

前几天卖了2部先锋刻录机很好用，刻录光盘快，很好。先锋大牌声音很轻，感觉稳稳的，现在很少有上翻盖的光驱了，不错

光刻机分立器件

读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机，今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售，然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机，将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

俄罗斯建议荷兰用光刻机换口罩

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

除了设备过于昂贵之外，EUV光刻机的耗电量也是剧增，据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%，如果引入第二代EUV光刻机，预计耗电量将进一步上涨，不知中国台湾能否撑得住，昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受，这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

很好，轻薄，声音也小，速度不错，还没有拆开用，现在计算机配光驱的不多了，买个外置的特殊场合备用，很是不错

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖，其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此，它们甚至在挖ASML的根

收到后只用来放DVD，很好用。运行比较安静。希望耐用。用过才知道，和某品牌同价位的确实不一样，各方面都超出预期，还是非常过硬的东西，必须好评！

据悉日本这次是众多芯片设备企业与日本最大的芯片企业铠侠合作开发了先进的5nm工艺，估计是在原有的NIL工艺基础上研发的，此举对于日本的芯片产业来说具有重大意义，将进一步降低芯片的成本，重振日本的芯片产业

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机，今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售，然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机，将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

本人电脑配光驱是并口的，现在换了新主板已经没了并口，只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱，用了多年性能依旧良好，所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错，读盘很快，刻录效果也不错，声音很小，而且价格很实惠。

质量非常好，与描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，服务态度很好，运送速度很快，很满意的N次购物

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺，在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了，用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元，而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本