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众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片

当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

非常好用的一个东西。用来看DVD碟片。小孩六一儿童节的表演节目。马上拍马上到。100块钱就到手，读碟速度超快。超值的呢。

很多朋友可能会疑问：“我们进口日本的产品就不怕被限制了吗？”是的，只要是不包含美国技术的产品，我们其实都可以进口，只是看该企业愿不愿意了

日本的佳能公司是一家以“完整产业链一体化生产”为要求的公司，这就代表着该公司无论是从研发、设计、制造还是之后的材料选用，都是本土提供的，并无含他国技术，自然出口也就没什么问题了

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用

ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术

到货后马上拆机更换，读取速度也很快，刻录效果以后再试，一直用这个牌子，效果不错，东西还是不错，好用，就是包装盒是脏的，不舒服

你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力

读盘速度：读速很快 读盘声音：一般情况下，声音较轻 稳定性能：稳定性高 轻薄程度：大小合适 外形外观：外观美观 产品包装：包装精美，质量可靠

物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

读盘速度：读盘速度很快 读盘声音：读盘运行声音很轻不注意听几乎听不到声音 轻薄程度：宝贝很轻巧，拿在手上没多少重量 外形外观：外观大气，很喜欢

专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意

非常好，读碟很快，刻录速度快也很稳定，送货神速。好评！先锋刻录机，装进去马上能用。老品牌值得信赖！和我的酷冷至尊机箱很匹配。

好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??

当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

先锋品牌、质量保证、一直都在用。第一个用了三年，现在是第二个，给力好评五星?！很好的购买平台，质量不错，特别是有品牌的，值得信赖

质量非常好，与描述的完全一致，非常满意，很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，送货师傅服务态度很好，送货速度很快，很满意！

按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货

虽然可以对外出货，但国厂商，想要买到它，可能就千难万难了，基本不太可能，毕竟EUV光刻机都买不到，更不要说精度更高的电子束光刻机了

对于现有的硅基芯片，全球最大的芯片制造企业台积电研发先进工艺已遇到了巨大阻力，3nm工艺已延迟了一年，在今年三季度研发成功后却被苹果认为用它试产的A16处理器性能不达标，成本却太高，最终苹果舍弃了3nm工艺，导致台积电的3nm工艺面临无客户采用而没有量产

读写速度比较快，基本上没有噪音，关键是耐用，之前一直在用Dell的，但是基本上很容易坏，用先锋之后就很好

原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。

提到中国的光刻机时候，都会谈到上海微电子，然而上海微电子类似于ASML，它自身只能负责部分元件的制造，还得大量外购光刻机元件，最终由它组装成光刻机，正是由于产业链的发展难度大，导致了国内的光刻机在追赶ASML过程中困难重重

好在这一切，如今都逐渐得到改变，经过数年的发展，国产光刻机产业链如今已逐渐成型，双工作台有华卓精科，激光光源系统有科益虹源、虹科光电等，浸润系统则有启尔机电等，还有镜头系统、曝光光学系统等都有国产厂商在做，并且这些产业链企业都位居全球前三，甚至居于全球第二

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

产品包装：包装妥当，严实 稳定性能：稳定 读盘声音：较小 外形外观：小巧 轻薄程度：轻薄 读盘速度：很快 先锋不愧是光驱第一品牌，以前用过先锋的CD刻录机，从没有废盘，刻录质量杠杠的！

中国光刻机发展

至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚

但近日，美国一家公司Zyvex，利用一种完全不同于EUV光刻机的技术，制造出了768皮米，也就是0.7nm的芯片

比EUV光刻机更先进:美企研发全新光刻机