滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片

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当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

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至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚

但近日，美国一家公司Zyvex，利用一种完全不同于EUV光刻机的技术，制造出了768皮米，也就是0.7nm的芯片

很好的刻录机，刻录盘时声音很低，刻盘成功率高。质量不错，安装简单，稳定性也很好，读碟速度快，值得推荐

先锋蓝光刻录机非常好，物美价廉，很实用，物超所值，质量还是不错的，刻录很方便，三步就像U盘一样，直接拖拽就可以刻录了，不需要非常麻烦的操作，也不需要下载刻录软件，而且可试用的光盘范围比较宽广

在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。

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中国制成先进光刻机

阿斯麦的标志日本和韩国就是先例，日本有技术，韩国也有技术，日本在半导体领域曾经甚至领先美国，占据了全球半导体领域的半壁江山

但是现在，日本在高端半导体领域的水平并不突出，核心技术都到了美国手里

韩国的情况也一样，出了一个三星，结果大股东都是美国资本，已经沦为了一家真正意义上的美国公司

现在荷兰还有得选，所以必须坚持自己的立场，确保核心技术在自己手里，且尽可能地不受制于人

本来准备装电脑上的，结果发现机箱没有光驱位，索性加一个光驱盒，拿来当外置光驱，没想到速度还挺快的，声音很小，比较安静

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而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

正如人民日报说的那样：关键核心技术是要不来、买不来、讨不来，若不自立自强，必有“卡脖子”之虞

国内企业应该放弃幻想，聚四海之气，借八方之力，自立自强不是关起门来搞科研

总而言之，与其对老美“松口”抱有幻想，还不如脚踏实地、身体力行地去完成全产业链的国产化替代，只有自己手中“有粮”，才能遇事不慌

刚收到货，装上后刻了一张，很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传，从机子上看是今年5月出厂的。

之前，半导体的产能紧缺和过剩是行业周期带来的

举例来说，当台积电的工艺从28nm进步到14nm，芯片设计公司开始采用14nm工艺，之前建设的28nm产线就成了过剩产能

而14nm产线新建需要时间，就造成了短缺

最先进的光刻机是几纳米

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同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合

光刻机的难度相当大，在于它自身就是一个庞大的产业链，DUV光刻机的重量达到500公斤，由1万多个元件组成；EUV光刻机更是重达180吨，由10万多个元件组成，正是因为它的复杂性，所以ASML自身无法生产所有元件，需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机

光刻机等于什么

国产先进光刻机产业链成型

光刻机是一个很大的产业链，国产光刻机产业链的进步自然无法完全被掩饰，估计ASML也是看到了国产光刻机产业链的快速发展，了解到纯中国产的先进光刻机即将量产，所以ASML才在今年一季度加紧出货，近期美国限制ASML给中国供货14nm以下的光刻机估计也是认识到中国已很快突破到14nm光刻机了，这是中国芯片产业链值得高兴的事情

也正因为光刻机技术差距大，所以目前光刻机是禁运的，比如EUV光刻机美国就不准ASML卖到中国大陆来，为的就是阻止我们进入到7nm

前段时间还传出美国要对14nm及以下的设备下手，实行禁运，原因就是国内的设备，能够实现14nm以下节点不多，更多的还处于14nm、28nm阶段

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众所周知，中国大陆的芯片产业要发展，与台湾省、与韩国、与日本、欧洲、美国等国家和地区的情况都不一样，复杂很多