滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右

比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

物流很快，上午下单下午就到了。东西很轻，主要用来读DVD和CD，目前没有什么问题，声音不大，刻录没用过。基本满足需求。

到货拿回家就马上装上了，已经第二次买先锋牌的光驱，质量还是很好，很实用，京东快递小哥很有礼貌，服务很周到。

反射镜的作用是把模板上的电路图等比例缩小，在硅片上以电路图的形式呈现出来，这是制造芯片的关键元件

ASML公司EUV光刻机的反射镜来自德国的蔡司

EUV多层膜反射镜作为光学系统的重要元件，成为了EUV光源的一项关键技术，需实现EUV波段的高反射率

买了三个光驱，反馈都很不错，声音小，噪声小，刻盘的速度很快，跟之前的光驱比的确不是一个档次，之前光驱识别光盘都很困难，这个很快就能识别出来，真的是大赞。京东速度还是一如既往地快，让人赞不绝口，以后还是继续支持京东?

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

东西已经收到！手感不错！用料扎实！质量很好！平常用基本没有问题！先锋刻录机质量一直很稳定，买来试用刻录了几张光盘，没什么问题。

中国能生产14nm光刻机吗

为了利益

美国企业英伟达在早些时候表示，已经重新针对中国市场研发了一款芯片，并于明年开始向中国出口

据悉，新款芯片是A800，属于是A100的代替品，而且这款芯片并不受到美国法案限制

可谓是一手曲线救国

美国企业都不愿意落实政府要求，作为外国企业的阿斯麦肯定也不会听从美国的话

光刻机到底能用来干啥?制造难度究竟多大

先锋品牌值得信赖，一直都是在京东购物，速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度：很快读盘声音：很静音稳定性能：不挑碟，稳定外形外观：黑色沉稳高大上

西方之所以能够垄断光刻机产业，主要得益于西方国家在半导体技术上起步较早，有着全套的技术产业，而后发国家缺乏相关技术，经验以及产业配套，在光刻机制造上几乎举步维艰，与生产芯片的其他工艺相比，光刻机的制造高度复杂，这种设备的制造需要一个完整的高端产业链来提供部件，单独一个企业不可能完成制造，AMSL虽然身为荷兰公司，但这家公司背后却代表的是整个西方半导体产业

买来用上了，很合适，这是我第二次买这个刻录机。很是信任。 读盘速度：很快 读盘声音：声音较小。 稳定性能：刻盘很方便。 外形外观：外形包装也很美观简约等等。反正就是喜欢。

大品牌！值得信赖的！效果超级好！贵有贵的道理！很棒的商品！像之前的时候一直不知道先锋的光驱都没有，然后通过搜索之后啊，现在用光驱呀，就在先锋的光驱，真的是业界的精品。真的是挺不错的，嗯，反正是课本的话，然后速度超快，而且还稳定。小逼之前用的那种lg的还行的那种都好的太多了，真的是在大家都来购买。

吸取了前车之鉴后，除了强攻整机制造，还扶持了一批配套产业链企业

　　比如，中科院微电子所与科益虹源合作研究光源系统、清华大学与华卓精科的开发双工作台系统、浙江大学与启尔机电共同研制浸没系统等

　　持续的攻关下，光刻机产业开始取得突破

先锋光驱很薄，轻巧；读取速度快 ，也很安静，使用简单，方便，值得拥有。读盘速度：快稳定性能：好外形外观：不错京东送货很快，是正品，读碟声音少，速度大，满意好评。

规划工作者希望通过市场化和运动式的集中攻关并行，换取半导体技术的进步和产业跨越的发展

   反射镜同样是EUV光刻机上的重要一环，能够达到光刻机要求的多层膜反射镜，目前只有德国老牌镜头制造厂家蔡司能够拿出来，这一产品也安装在了ASML家最新研制的光刻机上，以实现EUV波段的高反效率

   除了上述两个关键子系统，光刻机的工作台也为制造者提供了难度极高的挑战

   我国军工人也是在理解了原子弹爆炸的具体原理后才研制出自己的核武器

但光刻机不同，光刻机的原理人尽皆知，却会被工艺彻底卡死，说到底光刻机是一种在现有技术上完成跨越式进度的东西，与原子弹相差甚远

物流快得惊人，头一天下午下单第二天早上就到了，神速啊，送家里了，下班后试试产品会追评。

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

简单来说，复旦大学成功实现了CFET晶体管，该晶体管在当前的应用特点，是可以实现集成度的翻倍，这与提升芯片制造工艺的结果是一样的，因为提升工艺的目的就是为了提升晶体管的集成度

因此我们就可以看到，将芯粒、CFET和先进封装结合起来，就可以实现异质异构芯片，异质异构芯片与采用依赖先进工艺的同质同构的芯片相比，性能上并不占有劣势，但是成本上却占有极大优势

正相反，台积电反而开始积极扩建28纳米等成熟工艺工厂

这还只是同质异构芯片刚刚被应用的开始，而异质异构芯片量产后，这种趋势将会更加明显