其实在我认为,这个消息不但没有说明asml顶住了美方的压力,反而说明了这是美方打压我们半导体业务的另一个手段,asml被利用了
研发光刻机这种高精尖设备,投入资金大、投资回报时间长,一般的民营企业很难主动参与进来
asml的光刻机在研发过程中,也多次获得了欧盟和荷兰政府的支持
根据中科院光电所所长,罗先刚介绍说:2012年,该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务,经过近7年艰苦攻关,在无国外成熟经验可借鉴的情况下,项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)