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ASML 表示，利润率受到了通胀成本上升的影响，此外，一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货，导致了延迟确认收入，从而影响了收益

IT之家了解到，ASML 主导着光刻系统市场，客户包括所有主要芯片制造商，其中台积电、三星和英特尔是几大重要客户

ASML 公告称，截至 6 月 30 日的三个月，公司收入为 54.3 亿欧元（约 374.67 亿元人民币），高于 2021 年同期的 40 亿欧元；净利润为 14.1 亿欧元（约 97.29 亿元人民币），高于去年同期的 10.4 亿欧元

大家都知道，我国的半导体产业这些年的发展速度十分之快，无论是从芯片还是从光刻机方面，我们都顺利的制造出了属于我们的“国货”

但是，我们的国货终究技术有限，目前来说我们与顶级的光刻机制造企业之间还是存在很大的差距，而我们想从国外进口，却又面临到了一个重大难题

运输速度快，商品保存完好，没有损坏！商品质量好，货真价实！使用方便，方便简洁！产品易于操作！快递小哥工作很到位，送到家里，还放好了地方！

使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，同时购买了一款外置的，这个还没有用过过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

难道他们会甘心？显然最近的消息证明他们还是想拼一把

据日经中文网报道，佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机

佳能光刻机新品最早有望于2023年上半年上市

曝光面积扩大至现有产品的约4倍，可支持AI使用的大型半导体的生产，3D技术是可以通过堆叠多个半导体芯片使其紧密连接来提高性能的方式

正相反，台积电反而开始积极扩建28纳米等成熟工艺工厂

这还只是同质异构芯片刚刚被应用的开始，而异质异构芯片量产后，这种趋势将会更加明显

而ASML或许始料未及，中国在芯片技术上的发展会如此之快，因为在CFET晶体管技术上，ASML的盟友比利时微电子也将此作为未来的技术发展方向，但现在复旦大学却已经实现了

产品收到，销售人员服务非常OK，有耐心，咨询的问题都及时帮忙解决。包括相关产品的技术问题都帮忙解决了。服务品质特优。再次感谢。

这两种技术的结合，在一定程度上减少了先进工艺的采用，因为这种新技术不仅降低了成本，同样可以做到芯片性能的提升，本质上来说，还是因为在芯片的设计环节起到了关键作用，而现在，复旦大学在芯片的底层技术，也就是晶体管技术上实现了突破

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

好使，稳定性能强大，即插即用，很不错的一款产品，给客户买的，收到包装完好，安装简单，读取速度快，很赞

近日国内光刻机产业链的企业之一，传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果，国产EUV光刻机已取得了重大进展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及

物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

光刻机技术现状与趋势

当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星，它们目前推进的最先进工艺为3nm，然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期，这已导致苹果放弃了3nm，迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E

值得注意的是不仅ASML将希望放在中国市场，韩国存储芯片、美国芯片都将希望放在中国市场，它们目前都希望中国企业采购更多芯片，帮助它们解决芯片库存，确保现金流，为此甚至不惜大举降价抛售，与此前它们大举涨价销售芯片形成鲜明对比，这不免让人感叹一年河东、一年河西

如今的中国飞速发展，各行各业都离不开芯片，虽然部分芯片中国可以国产，但是在高尖端芯片还是稍显不足，需要依靠进口芯片或者高端光刻机

而作为全球为数不多能生产EUV光刻机的荷兰阿斯麦公司自然不会放过中国这么大的市场，所以与中国之间的合作也是越发紧密

帮同事买的，品质一流，狠满意的一次购物。读盘能力强，噪音小，读取速度快，刻录时间和刻录质量稳定，同事都说好。包装完整，物流非常快，超级赞！！

很好，已经第二次购买，能写入dvd-ram，数据安全有保障。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 值得信赖 好评五星

　　光刻机最大的研制难度在于精密，制造过程中任何环节的差错都会导致光刻机运行出现问题，这也就间接的导致生产出的芯片不合格，而小到手表、手机，大到航空领域，没了芯片做支撑点，甚至于都开不了机，环环相扣的重要性让光刻机成为了半导体工业最关键的设备

　　一台光刻机所集结的是美国的光源设备、德国的蔡司镜头、日本的光学技术和台积电与三星提供的制程技术，光说一个蔡司镜头就是需要几十年甚至上百年的技术沉淀和不断测试才能做到的，我国光刻机紧追慢赶从90nm到29nm就用了18年

　　虽然DUV设备的性能不如EUV先进，但对于许多严重短缺类型的芯片制造过程也是聊胜于无甚至必不可少的，而华盛顿方面的要求重点，就是禁止销售这款DUV设备

一直用先锋刻录机，非常满意的一次网购 读盘速度：快 外形外观：好 稳定性能：好 轻薄程度：-好 产品包装：好 读盘声音：非常小

而后道光刻机，同是用于芯片制造的后道工序，比如芯片封装等，另外还有光刻胶制造也需要后道光刻机等

相对而言，前道光刻机更难，更为重要

同时对精度要求也越高，所以前道光刻机又分EUV、DUV、UV光刻机

而DUV光刻机按照精度，又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；ArF Dry用于65nm，KrF用于180nm等等