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光刻机_雕刻机_曝光系统

造出0.7nm芯片,中国光刻机的发展现状

而0.7nm,差不多相当于2个硅原子的宽度,也是理论上硅基芯片的最高精度,所以很多人认为,当芯片精度到了1.8nm以后,可能EUV光刻机也不行了,要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术,是啥技术?其光刻系统命名为为ZyvexLitho1,是基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,与极紫外线没有任何关系,称之为电子束光刻机,可能更合适一点

至于1.8nm以下,用什么光刻机?反正ASML现在还没规划,因为1.8nm后,技术又会怎么样变化,谁也不清楚

但近日,美国一家公司Zyvex,利用一种完全不同于EUV光刻机的技术,制造出了768皮米,也就是0.7nm的芯片

2008年装电脑时,就用的先锋品牌的光驱,之后又加了刻录光驱。质量一直很稳定。同学强烈推荐此品牌。质量上也真的无可挑剔。今年电脑坏了。主板不行了。用了十二年的电脑。终于可以彻底休息了。新配的主机主板没有IDE接口,为了家里的光盘不成彻底的废物,新买了SATA接口的光驱。质量一如既往的好。

中国光刻机的发展现状

当然,硅基芯片,也不需要这种电子束光刻机,这么高的精度更多还是用于量子计算芯片,制造出一些高精度的量子器件纳米器材等

另外就是,EBL电子束光刻机,产能非常低,至少在目前大规模制造芯片也不现实,只能小规模的制造量子计算的芯片,至于未来能不能技术改进,提高产能,进而取代EUV光刻机,还不清楚

众所周知,目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机,能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中,到2024年或2025年会交付新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机,数值孔径变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片

读盘速度:快, 外形外观:漂亮 读盘声音:很轻 稳定性能:目前使用稳定性好 产品包装:包装精致

很好的刻录机,刻录盘时声音很低,刻盘成功率高。质量不错,安装简单,稳定性也很好,读碟速度快,值得推荐

读盘速度:速度很快,先锋还是很不错的 读盘声音:声音很轻柔 稳定性能:刚上机,目前来说还是很稳定的,不出意外应该会很稳定的 轻薄程度:很简洁,做工挺不错的 外形外观:京东的物流向来是很给力,外观很板正,毕竟是大品牌,还是不错的 产品包装:没有任何磕磕碰碰,盒子包装都没有划痕,很给力不错

造出0.7nm芯片

按照Zyvex的说法,这台ZyvexLitho1是可以商用的,还可以接受别人的订单,具体多少钱一台,不清楚,但机器对方可以在6个月出货

虽然可以对外出货,但国厂商,想要买到它,可能就千难万难了,基本不太可能,毕竟EUV光刻机都买不到,更不要说精度更高的电子束光刻机了

造出0.7nm芯片,中国光刻机的发展现状

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先锋这个品牌也算是小时候就有的记忆吧。这次自己趁618搞活动,自己组装了一台电脑。我自己偶尔会用到光盘,所以组装电脑的时候比较在意光驱。比来比去选了先锋光驱。用了一段时间了,功能一切正常。读取速度很快。满意。京东快递也很给力。第二天就到货了。点赞。

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