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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机的原理是照相机原理,ASML后悔莫及

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近日国内光刻机产业链的企业之一,传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,加上此前在激光光源工作台镜头等方面所取得的成果,国产EUV光刻机已取得了重大进展,或许数年后国产EUV光刻机就将量产,这正让ASML后悔莫及

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ASML后悔莫及

EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大,在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候,DUV光刻机量产自然就更没难度了

中国在光刻机技术方面的快速突破,已让ASML感到担忧,事实上此前在美国的诸多压力下,ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展,中国迟早能解决光刻机问题

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中国在光刻机方面的技术迅速突破,在于此前具有一定的基础,事实上在1990年代的时候,我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大,只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大,以及当时发展芯片产业时机未到,国产的光刻机产业链逐渐凋零,如今经过近十年时间的努力,国内光刻机产业链再度打通也就不在话下

光刻机的原理是照相机原理,ASML后悔莫及

对于ASML来说,中国市场对它意义重大,2021年和今年一季度中国市场为它贡献了三分之一的收入已成为它的最大市场,如此大的市场,当然是ASML不能轻易舍弃的,事实今年一季度在诸多压力下,ASML就紧急对中国出货23台DUV光刻机,更计划在中国增加200名员工,以更好地为中国客户服务,取得更多市场

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光刻机之所以难,在于它是集诸多行业精华于一身,需要诸多产业链企业共同配合才能量产,一台光刻机就有上万个元件,可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链

此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破

光刻机的原理照相机原理

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