那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
一直选择在京东购物，特别是京东自营店，质量有保证，享受下单后，很短时间内就能体验上产品的感觉，快递小哥服务很好，非常感谢。包装盒看舒服。心理作用还是买个光驱，可能就用一两次，活动价99，便宜。小白装电脑，自我感觉良好，还在选配件，攒机中。担心配件攒齐后出问题过售后期了，就麻烦了。但为了省钱，没办法
物流速度很快，当天就到货了。性能也不错！十几年前的刻录盘都能读出来！！以前买过，用了很多年，突然不好了，干脆再买个新的吧！性价比很高！
做工很好，工作稳定，噪音小，读光盘快速静音，刻录光盘可靠性高。有说明书，附带安装螺丝。外包装是纸箱，无挤压变形。京东物流很快，快递小哥直接送到家。
世界光刻机厂商
稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好
国产90nm的光刻机
不错，很好，喜欢?，给力?，哈哈?果然是大牌子，质量很好，声音安静，读取刻录都很顺畅
先锋的刻录机是老牌子，到了之后用了一下，非常好。顺便吐槽一下，现在的笔记本好多都不带光驱了，配一个外置光驱很有必要。
在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
这款蓝光刻录机价格太硬了，我等了一年终于降价了，赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机，用了十几年了还在用，刻录杠杠的，没一点问题，声音特别小，性能稳定，外观大气，读写速度都很快，质量绝对硬！！
据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的