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中国的目标,是要在2030年造出EUV极紫外光刻机,大家可能觉得,ASML2010年就已经开始量产光刻机,这会不会太晚了,事实上,这并不算太晚,我们通过不断地缩小所采用的光源的波长(EUV光源13.5nm),增强投影物镜的最小线条成像能力(提高数值孔径1.3)等方式,不断缩小能够加工的最小线宽
给小孩读他们学习的光盘用的,不错。太给力了。真的挺好的,品质一流,很满意的一次购物。物流一如既往地快,包装很好,一点也没有破损。这个宝贝真是不错,挺喜欢的,用起来挺好的。会再来的,这是一次很开心的购物,体验十分不错。价格也十分优惠,价优物美,很喜欢。一直很信赖京东,相当满意的购物体验。质量非常好,与卖家描述的完全一致,非常满意,真的很喜欢,完全超出期望值,发货速度非常快,包装非常仔细、严实,物流公司服务态度很好,运送速度很快,很满意的一次购物。感谢京东为我们提供的良好购物体验!
这个世界上并不存在5nm光刻机?
光刻机 荷兰 中国
换句话来说,晶圆代工厂即使拥有最先进的设备,如果没有掌握相关的制程工艺,也是白费
就好像一套厨具,不同厨师使用效果是不一样的
目前全球最顶级的就是EUV极紫外光刻机,它是是用波长为 13.5 nm 的极紫外辐射作为曝光光源的光刻技术
读盘速度:非常快也非常的有效率 读盘声音:基本听不到什么声音,非常安静,掉根针都能听到针的声音 稳定性能:即插即用,放进光碟就能读到想要的内容,非常的值得拥有 轻薄程度:材料用的非常好,又薄又轻方便携带使用 外形外观:黑金刚好看最主要大家都知道,耐脏,本人比较懒。
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美国联合欧洲,出动了国家三大实验室,联合美欧160多家科研单位耗费了十几年才攻克了EUV的理论难题
而ASML在制造的时候,可以获取到全球最顶级的零件,光源采用美国的Cymer,透镜是德国的蔡司,2010年,ASML向台积电交付首台EUV研发设备TWINSCAN NXE:3100系统
然而,这些方式使得我们光刻机的制造难度以及制造成本急剧增加,并且已逐步逼近物理极限
所以ASML想要研发出下一代的光刻机,2030年前还是很难完成的
事实上,现在全球市场上,第四代浸没式光刻机仍然是当前半导体制造的主力设备
如此困难的技术要求,造成了光刻机极低的产量,光刻机技术基本十年才会大更新一次
为什么说不存在5nm的光刻机光刻机以光源的改变,共经历了5代的发展,以第四代浸没式光刻机来说,可以造28nm芯片,也可以造7nm芯片,说它是28nm光刻机也没毛病,说7nm光刻机也没错