中国的光刻机产业链发展得如此缓慢，在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现，因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用，毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业
国产光刻机龙头上海微电子成立于2002年，其实它发展光刻机的时间不并不ASML晚太多
光刻机的难度相当大，在于它自身就是一个庞大的产业链，DUV光刻机的重量达到500公斤，由1万多个元件组成；EUV光刻机更是重达180吨，由10万多个元件组成，正是因为它的复杂性，所以ASML自身无法生产所有元件，需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机
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提到中国的光刻机时候，都会谈到上海微电子，然而上海微电子类似于ASML，它自身只能负责部分元件的制造，还得大量外购光刻机元件，最终由它组装成光刻机，正是由于产业链的发展难度大，导致了国内的光刻机在追赶ASML过程中困难重重
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光刻机是一个很大的产业链，国产光刻机产业链的进步自然无法完全被掩饰，估计ASML也是看到了国产光刻机产业链的快速发展，了解到纯中国产的先进光刻机即将量产，所以ASML才在今年一季度加紧出货，近期美国限制ASML给中国供货14nm以下的光刻机估计也是认识到中国已很快突破到14nm光刻机了，这是中国芯片产业链值得高兴的事情
两三年后，林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来，显示它的技术优势，浸润式光刻机随即成为市场主流，至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业，此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固
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