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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机技术未来发展,中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

用起来银好,读碟能力超级强大,价值也很实惠,值得购买的一款光。读盘速度:快读盘声音:小稳定性能:好产品包装:包装严实非常不错

外包装很精美,比联想db75好多了。先前用db75太久了,光头有点灰尘,抓出来的音频有问题,换了之后就好多了。目前没问题,各方面都很好。eac上可以直接查到偏移值,好用!

先进晶圆厂,28纳米以下的逻辑芯片制程,其所需要的EUV曝光数量随节点迭代而逐渐增加,所以节点越先进,EUV光刻机所需数量越多

所以,28纳米以下的高级逻辑芯片,其光刻设备投资额度,将随着逻辑节点的代差,指数级增加

光刻机技术未来发展,中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

光刻机技术未来发展

目前的顶尖芯片制造三强,台积电三星、英特尔,通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展,获得了大量的利润进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发,从而形成一个良性的循环

弯道超车”党看不见这些,他们整体呼喊着“弯道超车”的“商业模式”,无非是左右国家科技投入政策,将一笔又一笔的千亿规模的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏模式中去罢了

中国古语有云~~~杀鸡取卵,饮鸩止渴,就是指得这个“弯道超车”呀

我们要警惕最近有一些MCN机构艺人胡编乱造,为芯片造假翻案,并且大肆鼓吹各种“弯道超车”、“美国芯片没人要了”、“美国半导体要失业了”

这些“弯道超车”党的鼓吹、糊弄舆论,有可能导致我们国家大批投资化为泡影

非常完美的刻录机。现在公司买的小型主机几乎都没有像以前那这样自带光驱啦。所以必须买一个外带光驱用来读取和刻录光盘。机器黑色耐脏而且包装也很好。使用过了,没有任何问题。

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下,先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加:1,5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%;2,3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%;3,2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

在光存储这个领域中,日本的先锋品牌的确独树一帜,稳定高效,特别是在刻录行业质量真的是杠杠的,前置面板大黑,尽显优雅高贵,LOGO是白色的,装在机箱中大气豪华,这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年,值得信赖。读盘速度:速度很快,质量挺好。读盘声音:声音小没噪音稳定性能:很稳定。轻薄程度:适中吧外形外观:外观都一样产品包装:包装结实!

读盘速度:很快 读盘声音:还好 稳定性能:不错 轻薄程度:够短 外形外观:憨厚 产品包装:很好

比如,7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中:1,干式DUV光刻机的投资比例是10%,;2,浸没式DUV光刻机的投资比例大约是50,;3,数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%

当然,到了2纳米节点以下,有需要引入更加昂贵第二代高NA0.55 EUV光刻机,这意味着2纳米逻辑节点以下,晶圆厂的EUV光刻机投资总额进一步增加

非常小巧的产品,出乎意料特别的轻,有一种不能置信的感觉。具体速度还是可以的,质量自然刚刚的,过去一直使用这个品牌,今次也不例外。声音很安静,基本没有振动,当然我有适合的防震设备。很适合外带的小家伙,移动方便。

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