ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货
ASML总裁兼首席技术官Martin van den当时就表示，英特尔对ASML在High-NA EUV技术的远见和早期承诺证明了对摩尔定律的不懈追求
今年9月，台积电研究发展资深副总经理米玉杰也对外表示，台积电将在2024年取得ASML新一代High-NA EUV光刻机，为客户发展相关的基础设施与架构解决方案
在“技术复杂性（芯片制造）上升”之际，与韩国当地客户密切合作“至关重要”
ASML CEO 温宁克补充说，“在这里设立一个培训中心也非常重要，因为这将有助于让技术更贴近客户
”ASML正在持续增加在韩国的研发投资，目标是在未来 10 年内在韩国再雇用1400 名员工
持续扩大在韩国投资去年11月，ASML与韩国华城市签署了一份备忘录，宣布投资2400亿韩元（2.12亿美元），于2024年前在当地打造一座16,000平方公尺的维修中心和工程师培训中心，可容纳多达1500名员工
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在此次的新闻发布会上，温宁克表示，2024年，ASML的High-NA EUV光刻系统将首次应用于晶圆厂，计划在2026年至2027年之间的某个时间点批量生产该设备，并将尽可能扩大其生产能力，预计到2027-2028年，High-NA EUV光刻系统的年产能将达到20个
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在今天的新闻发布会上，温宁克也表示，明年半导体也仍将面临全球经济衰退风险所带来的困难
但是，他仍非常有信心的预测，全球半导体市场在未来十年内仍将保持平均每年9%的增长
预计到2030年，全球半导体市场将达到1万亿至1.3万亿美元
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