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光刻机_雕刻机_曝光系统

比EUV光刻机更先进:美企研发全新光刻机,张首晟华为荷兰光刻机

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质量非常好,与描述的完全一致,非常满意,很喜欢,完全超出期望值,发货速度非常快,包装非常仔细、严实,送货师傅服务态度很好,送货速度很快,很满意!

张首晟华为荷兰光刻机

即插即用,免包装程序,方便实用。刻录速度很快,1g大约8分钟?(¯﹃¯?)~~外观大气简约瘦小,生产日期今年8月~~

按照Zyvex的说法,这台ZyvexLitho1是可以商用的,还可以接受别人的订单,具体多少钱一台,不清楚,但机器对方可以在6个月出货

虽然可以对外出货,但国厂商,想要买到它,可能就千难万难了,基本不太可能,毕竟EUV光刻机都买不到,更不要说精度更高的电子束光刻机了

读盘速度:读盘速度快,我喜欢。读盘声音:声音也不大,不像二手的。稳定性能:性能也很稳定。非常好用,以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试,稍后有空再操作

做工很好,工作稳定,噪音小,读光盘快速静音,刻录光盘可靠性高。有说明书,附带安装螺丝。外包装是纸箱,无挤压变形。京东物流很快,快递小哥直接送到家。

上午下单,下午不到晚上就到了,配送超快,当地大库发货就是方便,拿着比较轻希望耐用,读盘静音快速,刻录快也很静音,数据写入平稳,没有送刻录软件和数据线,价格便宜,用原有的Nero9赠送版本能识别出新光驱,面板简洁。

至于1.8nm以下,用什么光刻机?反正ASML现在还没规划,因为1.8nm后,技术又会怎么样变化,谁也不清楚

但近日,美国一家公司Zyvex,利用一种完全不同于EUV光刻机的技术,制造出了768皮米,也就是0.7nm的芯片

比EUV光刻机更先进:美企研发全新光刻机

众所周知,目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机,能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中,到2024年或2025年会交付新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机,数值孔径变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片

而0.7nm,差不多相当于2个硅原子的宽度,也是理论上硅基芯片的最高精度,所以很多人认为,当芯片精度达到了1.8nm以后,可能EUV光刻机也不行了,要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术,是啥技术?其光刻系统命名为为ZyvexLitho1,是基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,与极紫外线没有任何关系,称之为电子束光刻机,可能更合适一点

当然,硅基芯片,也不需要这种电子束光刻机,这么高的精度更多还是用于量子计算芯片,制造出一些高精度的量子器件纳米器材等

另外就是,EBL电子束光刻机,产能非常低,至少在目前大规模制造芯片也不现实,只能小规模的制造量子计算的芯片,至于未来能不能技术改进,提高产能,进而取代EUV光刻机,还不清楚

京东购物真方便,一直购买中 读盘速度:超快,识别光盘也不错,兼容性能超好。 外形外观:黑色,自用真好,看着舒服。。 轻薄程度:小巧轻便,放在笔记本包里也正好,方便我带出去 产品包装:京东物流快,包装也好,没有损坏,给快递师傅点赞。 读盘声音:读盘声音轻,能接受。

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