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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国光刻机留美,美国人为什么要限制我们购买?

比起DUV光刻机,它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线,能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸

而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer,这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的

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中国光刻机留美

就像原子弹爆炸的原理,早就不是什么国家机密,但真正制造出一枚核弹,却不是那么容易的事情

制造光刻机有哪些困难?首先是光源问题

光刻机是用紫外光刻画在晶圆上,这就对光源有了极高的要求

目前,世界上最先进的光刻机已经做到3纳米

这比挖比特币还要费电!我们自己的光刻机做到了什么水平呢?ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片

我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺能做26nm的芯片

据报道,上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机,尽快还达不到国际最先进的光刻机水平,但是在手机汽车等民用领域,以及武器装备用的芯片上,我们已经可以自给自足

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读盘速度:很快,比以前家里的快多了。 读盘声音:声音小,也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能:稳定好用,没有出现过问题。 轻薄程度:轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了,也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观:外观好看。真的不错

中国光刻机留美,美国人为什么要限制我们购买?

ASML公司研发出了双工作台,在一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作

最后就是耗电问题

EUV光刻机耗电非常高,它需要把整个工作环境都抽成真空以避免灰尘

EUV光刻机运行每小时耗电至少150度

美国人为什么要限制我们购买?

在芯片制造过程中,并不是一次曝光就可以完成的,在制造过程中要经历多次曝光,这也就意味着,在芯片制作过程中要进行多次对准操作

芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔,在这种情况下,掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内

读盘速度:速度很快,先锋还是很不错的 读盘声音:声音很轻柔 稳定性能:刚上机,目前来说还是很稳定的,不出意外应该会很稳定的 轻薄程度:很简洁,做工挺不错的 外形外观:京东的物流向来是很给力,外观很板正,毕竟是大品牌,还是不错的 产品包装:没有任何磕磕碰碰,盒子包装都没有划痕,很给力不错

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