读盘速度：速度还是相当快的，大概2秒左右。 读盘声音：声音很小，主要是用来放音乐?的。 稳定性能：性能指标还可以，支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度：大小刚刚好，能放在光驱位，要螺丝固定。 外形外观：外观很别致，很简洁。 产品包装：包装盒完好，还送了数据线。
编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
给单位同事购买的商品，没有反馈说不好用，肯定是很好用了！非常好，正品，刻录机只用先锋，完美的使用感受
比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展
和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机
半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
光刻机唯一上市公司
自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年
