我国芯片光刻机企业有哪些
光刻机是芯片制造环节的一种关键设备，在芯片的工艺制程上，也主要是由光刻机来决定的
根据芯片制造环节的不同，可以分为前道光刻机和后道光刻机，ASML的优势在于前道光刻机，而我国上海微电子的优势，则是后道光刻机
其中决定芯片制程的就是前道光刻机，所以由于ASML使用了部分老美的技术，因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约，无法出货大陆中企
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而且DUV光刻机的关键部件，如双工件台、浸没系统等，主要技术来自ASML自己，所以说ASML在DUV光刻机上拥有着说话的底气
当然，内部因素其实还不是最主要的，主要还是来自外部因素
所谓的外部因素，就是DUV光刻机毕竟是一项已经成熟的产品，从本质上说，DUV光刻机没有技术上难以逾越的鸿沟
在内部因素上，之所以EUV光刻机，ASML遵从了修改后的芯片规则，是因为EUV光刻机的关键零部件需要美的技术，甚至这些零部件就来自美本土
但是在DUV光刻机上则不然，换句话说，ASML在DUV光刻机上实现了全球领先，与美可以说没有直接的联系
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所以对于ASML来说，让DUV光刻机也去适配修改后的芯片规则，没有任何意义，只会是让ASML丢失大量的市场和营收
要知道，目前我们不仅是全球最大的芯片市场，也是全球最大的半导体设备市场，而ASML在老美的营收已经连续三年下滑
而DUV光刻机的光源，我们很早就已经实现了突破，国产替代完全没有问题
所以ASML才说，DUV光刻机已经是一项成熟的技术，言下之意，如果我不卖，那我很快就会被替代
事实上，我们国产DUV光刻机的高端部分，近年来，各个主要零部件，已经纷纷进入中试阶段，距离量产已经是一步之遥
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光刻机风云再起
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