芯片厂商打响“2nm 工艺战”
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ASML 光刻系统的发展一直是通过减少波长和增加数值孔径来进行演进
目前，ASML 的主力产品是 0.33NA EUV 光刻机，并正在大批量生产中
对于 0.33 NA 系统，ASML 正致力于通过增加吞吐量和降低总能量来减少每次曝光所需的能量
读碟挑剔，咨询客服，无回复。拿到手沉甸甸的，包装很好，装机试了一下，读盘很快，稳定，希望用的久一些
轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期
一直信赖先锋品牌，做影视传媒的必须用到光驱，非常好用，即插即用，读盘飞快，声音也很轻，速度快，使用稳定，刻dvd和bd都非常好用，没有飞盘，脱离。推荐朋友也用这个品牌，性价比超高，而且几乎也没有声音，稳定用几年不出故障，京东物流速度也非常快，十几年前就用先锋光驱，这也是一中情怀，下次光驱依然还是先锋，就这价钱和这服务，完美！
ASML 表示，第一台 0.55 NA EUV 光刻机原型试预计 2023 年交付，2025 年后量产，第一台预计交付英特尔
芯片厂商冲击 2nm 工艺根据 Gartner 分析师 Alan Priestley 的预测，0.55 NA EUV 光刻机单价将翻番到 3 亿美元（约合 20 亿元人民币）
上海微光刻机进展
在今年 6 月 17 日举行的技术研讨会上，台积电研发高级副总裁米玉杰表示：“展望未来，台积电将在 2024 年引入高数值孔径的极紫外（高 NA EUV）光刻机，为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案，进一步推动创新
未来比 3nm 更先进的工艺，将极度依赖高 NA EUV 光刻机
ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：在高 NA EUV 方面，我们取得了良好的进展，目前已经开始在我们位于维尔德霍芬的新无尘空间中打造第一个高 NA 光刻
用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构
日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展
根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现
因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！
稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻