ASML将面临更激烈的竞争
研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，成本相对低廉，X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多，加上俄罗斯具有雄厚的工业基础，可以一探究竟
中国的光刻机生产技术
可能看到了苹果M1 Ultra处理器在芯片堆叠技术的大获成功，以及最近非常火热的小芯片技术，感觉3D技术会很香，让日本厂商看到了在此翻身的希望
写在最后，光刻机市场一时间风起云涌，相信这一定让ASML非常担心，担心自己的垄断地位不保，前几天ASML一哥还放软话，“不是我们不愿意卖，而是受政府限制
“02专项”出窍，看国内现状中国目前技术最为先进的光刻机是上海微电子公司生产的90nm光刻机，其实对于光刻机的发展，中国一直在不断尝试，早在06年就成立了02专项，经过十几年的发展，在光刻机各方面已经有了长足的进步
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另辟蹊径，一心超越EUV近日有消息称俄罗斯正在开发一款全球领先的光刻机，甚至比ASML最先进的EUV光刻机还先进，俄罗斯莫斯科电子技术学院承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）
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有网友表示，在财政困难的情况下，竟然拿出如此一笔巨款开发光刻机，相信俄罗斯是认真的，一旦研发成功或将也惠及中国半导体市场
毕竟俄罗斯苦美久已，不会遵守美国对中国的无理制裁要求
沉寂已久，重出江湖得益于雄厚的工业实力，日本在光刻机领域有着全球最多的专利，其中仅最尖端的EUV光刻机就占据了45.5%，但由于技术路线选择错误导致逐渐没落，但瘦死的骆驼比马大
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