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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国光刻机有突破吗,佳能想给中国提供光刻机

所以其它厂商有一个非常大的机会,那就是搞定EUV光刻机,然后卖给中国,那会是巨大的市场

不过,要掌握EUV光刻机技术,可不容易,因为ASML造EUV光刻机,是整合了全球的技术,美国的光源德国镜片英国的真空腔,可以说是举全球之力完成的

佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺

当然现在的问题是,能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机,究竟会在什么时候面市,如果佳能能够实现这个技术,全球的半导体格局都有可能生变

能想给中国提供光刻机

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中国光刻机有突破

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值得大家注意的是,目前NIL技术,基本上都是日系厂商掌握,并不需要依赖美国、欧洲等的产业链,也就是说NIL光刻机,日本一旦生产出来,可以不听美国的,不受美国的长臂管辖,也意味着佳能一定生产出来,是可以卖给中国的

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众所周知,目前芯片制造流程中,光刻机是必不可少的设备,且从成本来看,光刻机占所有半导体设备成本的20-25%

但是大家也清楚,当前在光刻机领域,ASML是一家独大,特别是EUV光刻机,只有ASML能够生产,而在尖端一点的DUV光刻上面,也是ASML占优,佳能、尼康等品牌,主要占的是低档市场

如上图所示,这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况,大家可以看到高档的EUV光刻机,ASML完全垄断,低档尼康、佳能有一定的份额

而中国大量需要光刻机,特别是EUV光刻机,这就造成了市场与需求的不匹配,但ASML也没办法啊

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