在政策的大力支持下，芯片行业进入了海归创业和民企崛起的时代，国产光刻机事业再次艰难起步
此时，国际上光刻光源已经被困在193nm长达20年，最终台积电在2002年提出了浸入式光刻方案，阿斯麦也凭此击败尼康，成为新一代光刻机霸主
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就在形势一片向好时，美国开始了对中国芯片产业的围堵，十几年前的担忧最终成为了现实
如今中国的芯片产业链与国外虽然仍有差距，但与之前不同的是，国家政策持续发力，资金支持到位，工程师队伍不断壮大，产业链的各个环节也已今非昔比
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德国徕卡光刻机
国产光刻机的艰难往事
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面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的
今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要
”2逆境改革开放之后，全国兴起了引进外国设备的热潮，半导体产业开始受到猛烈的外部冲击
尽管742厂的技术引进大获成功，但从整体来看，芯片产业出现了重复引进和过于分散的问题
在扩大对外开放的背景下，“造不如买”的思潮迅速蔓延全国
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2016 年，上海微电子90nm光刻机实现量产，华卓精科成功研制出两套双工作台样机，成为继阿斯麦之后，世界上第二家掌握这项技术的企业
至此，国产光刻机虽然还没有完全走出困境，但是经过20多年的艰难追赶，中国的光刻机乃至整个芯片产业，在吸取了之前的发展教训后，总算逐渐开花结果
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