至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚
但近日，美国一家公司Zyvex，利用一种完全不同于EUV光刻机的技术，制造出了768皮米，也就是0.7nm的芯片
比EUV光刻机更先进:美企研发全新光刻机
中国哪家公司买到了光刻机
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先锋的光驱，一直都很信赖，以前读书的时候配的电脑的光驱就是先锋，到现在20年过去了，还能用，所以这次依然决然选择先锋。作为光驱的行业领导者和老品牌，果然不负所望，读盘速度快，低音甚至无音，轻薄程度刚好，外形外观简约大方，产品包装和物流包装双重保护，产品包装严实，非常好！
当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等
另外就是，EBL电子束光刻机，产能非常低，至少在目前大规模制造芯片也不现实，只能小规模的制造量子计算的芯片，至于未来能不能技术改进，提高产能，进而取代EUV光刻机，还不清楚
而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了
Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点
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很棒的机器，收到后就连刻四张CD，全部成功，播放音质震撼，和原版没有区别。上午到货，自营的商品物流就是快。放了一张盘，声音很小，很安静，手里没有空白盘，未尝试刻录功能。
众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片
且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机
这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片
送货快，电脑城那边便宜，读盘速度刻盘速度，很快，感觉很有威力，前前后后一共买过三个，都是给单位买的，原来的都不读盘了。
按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货
虽然可以对外出货，但国厂商，想要买到它，可能就千难万难了，基本不太可能，毕竟EUV光刻机都买不到，更不要说精度更高的电子束光刻机了
外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。