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“突破点”出现
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拉扯了那么久的DUV光刻机是否会被限制的事情,还是迎来了一个我们并不想看到的局面——“荷兰正在同老美商量对于实施半导体设备出货限制的事情进行谈判,最早会在下个月达成新的协议
”从之前荷兰明确表态不跟随到现如今的情况来看,DUV光刻机的出货新规很有可能就是限制出货,而一旦如此,也说明在老美拉拢盟友的过程中已经打开了一个缺口,余下的老美估计会想方设法的拉拢到同样限制的阵营当中
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要说这两者没有关系,估计外界也会有所质疑
毕竟,美限制起到作用有一个前提条件,那就是“盟友加入”,并且还承诺过美企要拉拢其他的企业限制,才会对美企做出同样的限制
要知道,在美限制新规出炉之后,率先拉拢的就是荷兰和日半导体
首先是因为在尖端技术领域的突破上,美半导体和日半导体有先联合的基础
其次是,在光刻机市场上ASML是一个重点,加之日本也有光刻巨头,并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货
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光刻机海关编码
足以见得,日半导体不是那么想要跟随限制
这一点从现在老美直接施压也可以看出一点苗头
那么基于这个情况下,想要日半导体跟随老美的限制很大可能是存在意外的
更凑巧的是,在传出了老美直接的要求之后,日半导体之前内部所建立的芯片联盟有了新的动向,那就是短时间内就将研发提上了日程
这不管是对于我们国内市场上,还是对于ASML来说都是一个不太好的信号
只不过,现在“突破点”出现了
就在日前,有消息透露目前老美正在对日半导体进行施压,据悉是直接要求日半导体配合美限制出货的问题
至于小编为何说这是一个突破点,是因为日半导体的决定很有可能会影响到荷兰方面的协议
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