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光刻机_雕刻机_曝光系统

无掩膜激光直写光刻机用途,每台价格至少3亿欧元

根据计划,ASML韩国维修中心工程师培训中心项目将于明日(2022年11月16日)举行开工仪式

为此,ASML CEO温宁克也亲自来到韩国,明日将与韩国政府官员半导体行业人士共同参与开工仪式

在此之前,温宁克出席了ASML于今日在韩国首尔举行了一场新闻发布会,介绍了ASML在韩国的发展愿景

可以的,外观漂亮且做工不错很结实,质量应该不错。用PowerDVD播放蓝光原碟很顺畅,画质也不错。刻录了一张25G和50G的蓝光碟,都刻录得很顺利。刻录的数据是之前自己收藏的蓝光原碟用笔记本蓝光BD-ROM光驱抓轨的iso镜像,刻录完后塞到客厅的蓝光影碟机里播放也很顺畅。作为Hi-Fi影音发烧友,也是先锋这品牌的老用户,设备里有三台还在服役且音质很发烧的先锋黑胶唱机、磁带卡座和LD影碟机,一直以来这三台老设备质量都很皮实且没出过故障。没用过先锋蓝光刻录机,这次买了台功能齐全又档次高点的,希望先锋的品质能一直如一,希望这蓝光刻录机的质量也能和那几台老设备一样不出故障长久用下去! 哦对,顺便吐槽一下。收到后发现包装没有封条,虽然里面的保护膜没被动过且包裹刻录机本体的塑料纸完好,但真的挺容易会被认为是非全新(看了保护膜和螺丝孔,是全新的没问题,放心买吧)。此外,也不送个SATA数据线也是有点抠门,开始还以为是在包装盒里,然后发现包装盒里也没有…简直。还好手上有多的SATA数据线。这个希望注意一下,一条SATA数据线没多少钱就别抠门了,给来买刻录机的配一条主要也是方便买家。

无掩膜激光直写光刻机用途,每台价格至少3亿欧元

每台价格至少3亿欧元

可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时,进一步提升效率和降低曝光成本

目前,EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右,但是如果要继续推进到2nm制程甚至更小的尺寸,就需要更高数值孔径(NA)的High-NA光刻机

读盘速度:很快 读盘声音:不大 稳定性能:很稳定 轻薄程度:合适 外形外观:完好 产品包装:结实

众所周知,目前ASML是全球最大的光刻机供应商,同时也是唯一的EUV光刻机的供应

由于EUV光刻系统中使用的极紫外波长(13.5nm)相比DUV 浸入式光刻系统(193 nm)有着显着降低,多图案 DUV 步骤可以用单次曝光 EUV 步骤代替

” 不久前,ASML公布了2022年第三季度财报,销售额和利润均超出市场预期,新的净预订额也创下了纪录

当时,温宁克也强调,“由于包括通货膨胀、消费者信心在内的一系列全球宏观经济问题,市场存在不确定性和衰退的风险

虽然我们开始看到每个细分市场的需求动态不同,但对我们系统的整体需求仍然强劲

”为了提升ASML的交付能力,近日,ASML也宣布了其扩产计划,即在2025-2026年,将EUV光刻系统和DUV光刻系统的产能分别提升到90个和600个;2027-2028年将High-NA系统的产能提高到20个

掩膜激光直写光刻机用途

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