中国的目标，是要在2030年造出EUV极紫外光刻机，大家可能觉得，ASML2010年就已经开始量产光刻机，这会不会太晚了，事实上，这并不算太晚，我们通过不断地缩小所采用的光源的波长（EUV光源13.5nm），增强投影物镜的最小线条成像能力（提高数值孔径1.3）等方式，不断缩小能够加工的最小线宽
中国什么时候研发出光刻机
??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机，连接笔记本电脑，质量可靠非常满意，刻录机很好，收到后就安装上，就刻了一张cD盘和一张D9盘，非常不错。
帮同事升级电脑，装了固态硬盘，加了光驱，重装了win10系统，电脑速度一下子提高了许多。同事很开心。
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这个世界上并不存在5nm光刻机?
噪音不大，刻录速度也很快，做工很精细，非常好，买一个放在手边刻盘很方便，美中不足没有赠送保护包，携带有些不方便。
光刻机为什么重要，就是因为只有通过光刻机，把电路图和其他电子元印在硅片上，才有制造出芯片的可能光刻机需要在一块指甲盖大小的硅晶片内，映射出几十亿甚至上百亿个微小的单元，目前最先进的光刻机能够加工的最细线条已经达到13nm
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如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次
为什么说不存在5nm的光刻机光刻机以光源的改变，共经历了5代的发展，以第四代浸没式光刻机来说，可以造28nm芯片，也可以造7nm芯片，说它是28nm光刻机也没毛病，说7nm光刻机也没错
很好，轻薄，声音也小，速度不错，还没有拆开用，现在计算机配光驱的不多了，买个外置的特殊场合备用，很是不错
很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了
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一台 EUV 光刻机重达 180 吨，超过 10 万个零件，需要 40 个集装箱运输
中国为什么还造不出最顶级的EUV光刻机很多朋友又会说了，为什么国外可以造出如此顶级的光刻机，中国不可以
ASML能够造出EUV极紫外光刻机，还要多亏了美国
外形外观：精美 读盘声音：静音 稳定性能：稳定 轻薄程度：超薄 产品包装：精美 读盘速度：快
无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求
终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长
不过有一个坏消息就是， 美国正在向ASML施压，希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国，而这相比于EUV极紫外光刻机，所造成的影响将更为严重