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中国除了继续研发光刻机之外,还在研发无需光刻机的芯片制造工艺,这方面已有日本做出示范,日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用,证明了无需光刻机也能生产芯片,而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产,如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾
这些消息都无不让ASML如鲠在喉,所以美国方面一再施加压力,但是ASML却一直都认为限制DUV光刻机没有多大意义,DUV光刻机已是多年前就已成熟的技术,中国在DUV光刻机方面的进展将会更快,如今中国在EUV光刻机技术上的进展如此迅速,显示出中国不仅在DUV光刻机技术方面进展迅速,在更先进的EUV光刻机技术方面同样很快
ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展,可能成为它的竞争对手,中国制造此前的事实一再证明,只要中国取得突破的技术,那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多,在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手
正品,一直以来都用这牌子的刻录机,先锋刻录机稳定性好,读取速度快,读盘的声音小 刻录光盘很少有飞碟,可以刻录多种型号的光盘,刻录的光盘质量很好,能够保存的的时间长,是备份数据的好帮手,物有所值,很好用。
好消息中企成功进口荷兰光刻机
光刻机之所以难,在于它是集诸多行业的精华于一身,需要诸多产业链企业共同配合才能量产,一台光刻机就有上万个元件,可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链
此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破
中国在光刻机方面的技术迅速突破,在于此前具有一定的基础,事实上在1990年代的时候,我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大,只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大,以及当时发展芯片产业时机未到,国产的光刻机产业链逐渐凋零,如今经过近十年时间的努力,国内光刻机产业链再度打通也就不在话下
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国产光刻机再进一步
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