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光刻机_雕刻机_曝光系统

造出0.7nm芯片,国产光刻机强势来临

而0.7nm,差不多相当于2个硅原子的宽度,也是理论上硅基芯片的最高精度,所以很多人认为,当芯片精度到了1.8nm以后,可能EUV光刻机也不行了,要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术,是啥技术?其光刻系统命名为为ZyvexLitho1,是基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,与极紫外线没有任何关系,称之为电子束光刻机,可能更合适一点

按照Zyvex的说法,这台ZyvexLitho1是可以商用的,还可以接受别人的订单,具体多少钱一台,不清楚,但机器对方可以在6个月出货

虽然可以对外出货,但国厂商,想要买到它,可能就千难万难了,基本不太可能,毕竟EUV光刻机都买不到,更不要说精度更高的电子束光刻机了

这款蓝光刻录机价格硬了,我等了一年终于降价了,赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机,用了十几年了还在用,刻录杠杠的,没一点问题,声音特别小,性能稳定,外观大气,读写速度都很快,质量绝对硬!!

大品牌,质量很好,性价比很高,安装使用方便,读写速度很快,光盘质量好的时候声音很好,使用有的光盘时候有较大声音。

很不错,做工精细。没配SATA线,附件电脑店买一条,装上,电脑认不出。进BIOS设置,解决。读盘速度:非常好读盘声音:非常好稳定性能:非常好轻薄程度:非常好外形外观:非常好

先锋的刻录机非常好,老品牌了,以前就经常使用,质量好,价格实惠,非常满意,快递非常快!

当然,硅基芯片,也不需要这种电子束光刻机,这么高的精度更多还是用于量子计算芯片,制造出一些高精度的量子器件纳米器材等

另外就是,EBL电子束光刻机,产能非常低,至少在目前大规模制造芯片也不现实,只能小规模的制造量子计算的芯片,至于未来能不能技术改进,提高产能,进而取代EUV光刻机,还不清楚

是正品,速度快,刻盘稳定,稳定才是王道,不会坏盘,很满意。买给客户的,对方很满意,刻录速度比较快,声音小,很实用

造出0.7nm芯片

造出0.7nm芯片,国产光刻机强势来临

先锋老牌子,读碟稳定,写碟快,噪音也很低,满意满意。很好用,噪音小,速度快,送货很快,最重要的是便宜。

读盘速度:读盘速度很快的,pineer先锋大品牌,品质有保障。 产品包装:包装结实,简单。 读盘声音:读盘声音不大,可以接受。 稳定性能:稳定性好。 轻薄程度:很轻薄,方便携带外出?。 外形外观:外形简约,灰黑色的,显得特别上档次。 京东自营的,物流给力有保障,好评好评。

国产光刻机强势来临

众所周知,目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机,能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中,到2024年或2025年会交付新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机,数值孔径变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片

品质不错,非常满意,很好用!很好用,刻录速度快,链接很稳定,非常好,很喜欢,够小,够轻,配的USB3.0的线,还带手动解锁

至于1.8nm以下,用什么光刻机?反正ASML现在还没规划,因为1.8nm后,技术又会怎么样变化,谁也不清楚

但近日,美国一家公司Zyvex,利用一种完全不同于EUV光刻机的技术,制造出了768皮米,也就是0.7nm的芯片

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