而这恰恰是工业发展历史不长国家的命门，也是目前我国暂时造不出真正先进水平光刻机的真实原因
光刻机与原子弹，谁更难？说到这里，有人不禁要问，中国曾在一穷二白的时期，独立研发过原子弹，为什么就是研制不出好的光刻机？其实，原子弹这样开创新技术的装备，研究的重点在于搞清楚原理
比原子弹还稀有
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荷兰总统光刻机厦门
这一现实情况促使我国迟迟落后于不断进步升级的光刻机工业，被荷兰日本超过许多，又始终找不到破解的法门
靠着光刻机技术的垄断，美国及西方世界将中国死死阻挡在先进芯片国家序列以外
从这一点来说，我国在光刻机研发上面临的内外交困比制造原子弹那时还要严峻，制造光刻机的难度也比原子弹更大
尤其是光刻机从DUV迭代到EUV后，加工精度更加夸张，对中国的光刻机制造单位而言，突破精度的技术壁垒，比登天还难
哪怕是我们有幸得到了最先进的EUV光刻机实物，也因为达不到相同的加工精度而无法国产
芯片作为一种高度集成化的科技产物，能以很小的体积运行天文数量的晶体管，用中国古话来讲，就是螺蛳壳里做道场
而光刻机就是为了完成这样微小却精细的操作而生的
光刻机启动后，会发射紫外线去除晶圆表面的保护膜，再将电路图形精准投射到晶圆上，以制造出符合芯片需求的图形区域
日本和荷兰能够成为世界唯二两个可自主研发光刻机的国家，很大程度上都因为两国的加工能力起步很早
目前，最新一代的光刻机已经能够加工出只有人类发丝直径五千分之一的线条，精度令人咋舌
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