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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML压力山大:EUV光刻机,中国光刻机迈进一步

先锋光刻录机己收到,质量很不错。物流送货上门,非常方便,很好,安装到位,正在调试,物流也很快。昨天下午下单,今天上午就到了

这个先锋的刻录光驱一直在用,质量很不错哦,而且京东上购买质量比较放心,价格也比较实惠,京东的发货速度和送货速度都很快哦,服务好超级棒。

那么EUV光刻机技术,能够一直卡住芯片制造企业的脖子,让大家无法拒绝么?并不是的,只怕到2nm时就要走到尽头了,无法再继续支持1.4nm、1nm这样的更高工艺的芯片了,到这些工艺时,EUV光刻机也光刻不了,要更换新技术了

很好用,稳定实用,磨砂外壳也不易沾染指纹。很不错!性价比高!买一个装着说不定用得着。虽然现在用光盘概率很小。。。

还没安装,连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘,先锋算是光驱里边老牌子了,希望可以好用一点,用久一点。总之不错,很满意。

ASML压力山大:EUV光刻机,中国光刻机迈进一步

先锋光存储产品一直是全球领先的,其实我更想购买的是DVD-ROM,因为我只用来抓取CD。从EAC抓取数据来看,读取偏移校正为6,这个数值相当低,也就是说抓取的效果是非常好的,有些光驱这个数值能达到50、60或者更高,因此这是评判一只光驱最好的维度之一。每个人用途不一样,我只是从抓取CD的角度来看是非常完美的,而且在抓取的过程中震动和噪音非常低。最后一句:先锋这款光驱是性价比之王

ASML压力山大:EUV光刻机

之后理论上数值孔径还能够再提升,比如达到0.7等,但已经没太多必要了,非常不值得,因为成本太高了,难度太大,估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机,其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右,而INTEL也计划用它在2025年左右,量产2nm、1.8nm的芯片

说起EUV光刻机,大家都非常熟悉了,这是生产7nm及以下芯片时,必须使用的光刻机

更重要的是全球仅有ASML一家厂商能够生产,可以说ASML卡住了全球芯片制造企业的喉咙,大家要生产7nm及以下的芯片,就必须找ASML

不管是台积电,还是三星,或者intel,都不敢也不能得罪ASML,否则不卖EUV光刻机给你,就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法,到2025年时,ASML会推出新一代的极紫外线光刻机,型号会是NXE:5200,其采用的数值孔径会达到0.55NA,数值孔径越大,精度越高

做工精致,读片性能很好,轻薄小巧携带方便,五星!还可以,价格很便宜了,电脑还是要装一个刻录机的,万一用了还是很方便的

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片,可能EUV光刻机就无法胜任了,要推出全新一代技术,至于是什么技术,目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机,可以生产0.768nm的芯片,但无法大规模量产

俄罗斯研究X射线光刻机,没有光掩模板,直接光刻,据称可以用于1nm芯片,但没有样品出来

中国光刻机迈进一步

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