如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次
为什么说不存在5nm的光刻机光刻机以光源的改变，共经历了5代的发展，以第四代浸没式光刻机来说，可以造28nm芯片，也可以造7nm芯片，说它是28nm光刻机也没毛病，说7nm光刻机也没错
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一台 EUV 光刻机重达 180 吨，超过 10 万个零件，需要 40 个集装箱运输
中国为什么还造不出最顶级的EUV光刻机很多朋友又会说了，为什么国外可以造出如此顶级的光刻机，中国不可以
ASML能够造出EUV极紫外光刻机，还要多亏了美国
无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求
终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长
不过有一个坏消息就是， 美国正在向ASML施压，希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国，而这相比于EUV极紫外光刻机，所造成的影响将更为严重
有许多朋友问我，国产5nm光刻机什么时候可以造出来，但是我要告诉大家，什么7nm光刻机、5nm光刻机，其实这样的说法是不准确的，在这个世界上，其实并不存在什么5nm光刻机
光刻机是什么什么是光刻机，利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
这个世界上并不存在5nm光刻机?
现在这年代还在用光驱的不多了吧，连机箱也没几个说特意有留位置的，要么就是复古机箱，非常难看……至于光驱还是信赖老牌子，用先锋我是很放心的！
中国造首台超分辨光刻机
换句话来说，晶圆代工厂即使拥有最先进的设备，如果没有掌握相关的制程工艺，也是白费
就好像一套厨具，不同厨师使用效果是不一样的
目前全球最顶级的就是EUV极紫外光刻机，它是是用波长为 13.5 nm 的极紫外辐射作为曝光光源的光刻技术
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前一个先锋刻录机用了12年装系统读盘报错了。又买个先锋。非常好用。先锋蓝光刻录机己收到，快递物流快，送货上门，很方便
读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。